一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

【分析事例】銅(Cu)の酸化膜厚評価 保管環境による違い

最終更新日: 2023-04-07 16:06:43.0
TOF-SIMSで無機物の分子情報を深さ方向に捉えることが可能

配線材料として用いられる銅(Cu)は空気中で酸化膜を生じますが、保管環境の違いによる膜厚の差を評価した事例をご紹介します。アルミホイルで包んだ銅(Cu)と、ビニール袋に入れた銅(Cu)をそれぞれ40日間保管し、TOF-SIMSにて酸化膜厚の測定を行いました。また、約20日間にわたる継続した調査により、再現性が得られていることを確認しました。
TOF-SIMSは酸化物や金属など無機物の深さ方向分析が可能です。
測定法:TOF-SIMS
製品分野:ディスプレイ・LSI・メモリ・電子部品
分析目的:化学結合状態評価

詳しくは資料をダウンロード、またはお問い合わせください。

基本情報

詳しくは資料をダウンロード、またはお問い合わせください。

価格情報 -
納期 お問い合わせください
用途/実績例 ディスプレイ・LSI・メモリ・電子部品の分析です

お問い合わせ

下記のフォームにお問い合わせ内容をご記入ください。
※お問い合わせには会員登録が必要です。

至急度  必須
ご要望  必須
目的  必須
添付資料
お問い合わせ内容 
【ご利用上の注意】
お問い合わせフォームを利用した広告宣伝等の行為は利用規約により禁止しております。
はじめてイプロスをご利用の方 はじめてイプロスをご利用の方 すでに会員の方はこちら
イプロス会員(無料)になると、情報掲載の企業に直接お問い合わせすることができます。
メールアドレス

※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。

一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

【分析事例】ディスプレイの製品・サービス一覧(640件)を見る