H2（水素プラズマの還元力で各種基板表面クリーニング。表面酸化層除去効果で親水性・濡れ性向上。ドライ・常温処理の新表面洗浄技術
多用途に実績豊富なプラズマクリーニング装置に新タイプ登場。
従来のプラズマによる表面洗浄機能に加え、水素プラズマによる還元洗浄機能を実現。
今まで以上に表面酸化層の除去能力が向上し、クリーニング後の基板の親水性も大きく向上。
従来と同じプラズマクリーニングにも当然対応。さらに従来のＡｒプラズマクリーニングとの複合クリーニングやＯ２（酸素）クリーニングとの2段階ステップクリーニングなど新たなクリーニング機能により、一般的なプラズマクリーニングに比べ洗浄対象物や洗浄効果が一段と向上。
小規模から本格量産ラインまで対応できる新型プラズマクリーニング装置
実装基板用のプラズマクリーニング装置「POEM]及び量産用プラズマクリーニング装置のハードを応用、クリーニング用ガス及びプロセスレシピをバージョンアップ。
豊富なレシピによる目的別クリーニングプロセスを実現。
水素ガス単体によるプラズマクリーニングの高還元性クリーニングに加え、Ａｒ＋Ｈ２の混合ガスによる物理洗浄／還元洗浄のＭIＸクリーニング。
Ｏ２クリーニングによる有機物除去後H2プラズマクリーニングによる表面還元クリーニング（表面酸化層除去）のSTEPクリーニング。
プラズマのイオンによる物理洗浄効果と水素還元能力を両立。
従来に無い効果をもつ新ドライ洗浄装置
豊富なレシピによる目的別クリーニングプロセスを実現。
水素ガス単体によるプラズマクリーニングの高還元性クリーニングに加え、Ａｒ＋Ｈ２の混合ガスによる物理洗浄／還元洗浄のＭIＸクリーニング。
Ｏ２クリーニングによる有機物除去後H2プラズマクリーニングによる表面還元クリーニング（表面酸化層除去）のSTEPクリーニング。
プラズマのイオンによる物理洗浄効果と水素還元能力を両立。
従来に無い効果をもつ新ドライ洗浄装置
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実装基板クリーニング フォトマスク等ガラス基板クリーニング 樹脂フィルム表面改質・クリーニング |
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水素プラズマクリーニング装置（イオンクリーニングタイプ）
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神港精機株式会社 東京支店
