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【MiniLab-125】 多元マルチスパッタ装置（Φ8"対応）1000℃ヒーターステージ(SiCコーティング ）搭載！コンパクトサイズ！

2024-05-06 00:00:00.0  NEW
多元マルチスパッタリング装置（Φ8inch基板対応）
・3元同時成膜 + 1元PulseDCスパッタ
・RF500W, DC850W両電源を3元カソード（Source1, 2, 3）へ自在に配置変更
・5KW PulseDC電源も搭載 → 専用カソード（4）で使用
・基板加熱ステージ Max800℃（SiCコーティングヒーターでMax1000℃も可能）
・MFC x 3系統（Ar, O2…
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多元同時スパッタ装置【MiniLab-S125】

ニュース一覧

54件中 1〜15件を表示中
表示件数
15件
  • 2024-05-06 00:00:00.0
    NEW 製品ニュース□■□■【Mini-BENCH 】超高温卓上型実験炉 Max2000℃ □■□■
    卓上サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃
    還元雰囲気用メタル炉も製作致します。

    ◉ 卓上 省スペース：328 x 220 x 250mm
    ◉ るつぼ内サンプル焼成用（るつぼΦ50 x 100）, 又はΦ1"〜Φ4"ウエハー焼成用
    ◉ ハイスペック&…
  • 2024-05-06 00:00:00.0
    NEW 製品ニュース☆★☆【nanoETCH】ソフトエッチング装置☆★☆
    ＜30W低出力制御によるダメージレスエッチング
    出力制御精度 10mWで、低出力にもかかわらず精密で安定したプラズマ処理。
    2010年グラフェン発見でノーベル賞受賞者率いる マンチェスター大学グラフェン研究グループとの共同開発製品。

    【特徴】
    • 2D（遷移金属カルゴゲナイド, 材料転写…
  • 2024-05-06 00:00:00.0
    NEW カタログニュース◆◇◆【nanoCVD-8G/8N】 グラフェン/CNT合成装置◆◇◆
    ◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール
    ◉ 急速昇温：RT→1100℃/約3分間
    ◉ 処理時間わずか30分！
    ◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機

    ◆特徴◆
    ・5inchタッチパネルによる簡単操作・レシピ管理
    ・最大30レシピ，30ste…
  • 2024-05-06 00:00:00.0
    NEW 製品ニュースBHシリーズ【UHV対応 超高温 真空薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1900℃
    ３種類のサイズ（Φ1, 2, 4inch）4種類のヒーター素線材質（Kanthal, Graphite, SiC, W）に限定して標準化、短納期・安価な価格を実現しました。
    大学実験室・研究機関に限定した製品です。

    【特徴】
    ● 予備ヒーター素線との交換が容易
    ● 取り扱いが簡単（M6ス…
  • 2024-05-06 00:00:00.0
    NEW 製品ニュース◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置
    OLED, OPV, OTFT等の有機薄膜蒸着用途に最適。温度応答性/安定性に優れた低温有機蒸着源、金属膜用高温蒸着源を採用。

    簡単タッチパネル操作でPLC全自動制御、操作性・メンテナンス性にも優れたR&D用真空蒸着装置。
    難しい操作手順を必要とせずどなたでも直感的に操作ができる分か…
  • 2024-05-06 00:00:00.0
    NEW 製品ニュース【SHシリーズ 基板加熱ヒーター_Max 850℃】CVD, PVD薄膜実験用に最適
    テルモセラ・ジャパン【基板加熱ヒーター】CVD, PVD等の薄膜実験用に最適な1inch〜4inch超高温基板加熱ヒーターのカタログの最新版に更新しました。
    ◉ 最高使用温度850℃（SH-IN）、1100℃（SH-BN）
    基板ホルダ、上下昇降機構・基板回転機構・RFバイアスなどのカスタマイズ品…
  • 2024-05-06 00:00:00.0
    NEW 製品ニュース◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置
    Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"〜最大6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar）

    [ANNEAL]は、ウエハー等の基板を安定したプロセス雰囲気にて高温熱処理が可能な研究開発用アニール装置です。

    高真空水冷式SUSチ…
  • 2024-05-06 00:00:00.0
    NEW 製品ニュース☆★☆ 【TCF-C500 超高温小型実験炉】Max 2900℃ ☆★☆
    コンパクト・省スペース・省エネルギー！ 高性能 R&D用超高温実験炉
    小片試料を最高2900℃まで加熱実験ができるR&D用超高温小型実験炉。
    実験室での超高温加熱実験、新素材開発などのさまざまな焼成実験を行うことができます。

    ◆主な特徴◆
    ・省スペース
    ・ロータリー…
  • 2024-05-06 00:00:00.0
    NEW カタログニュース◇◆◇ nanoPVD-S10A マグネトロンスパッタリング装置 ◇◆◇
    研究開発用RF/DCマグネトロン式スパッタリング装置です。
    高性能・多機能にも関わらず、実験室の限られたスペースにもフィットするコンパクトサイズ、7inch前面タッチパネルによる簡単操作。
    ● 到達圧力 5x10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！）
    ● 膜均一性 ±3%
    ● 多彩な…
  • 2024-05-06 00:00:00.0
    NEW カタログニュース★【マグネトロンスパッタリングカソード】★ テルモセラ・ジャパン
    不純物なく金属・絶縁物等を堆積するRF, DC, パルスDC対応高効率マグネトロンスパッタカソード。メンテナンス性にも優れます。
    【特徴】
    ・高真空対応
    ・Φ2inch、Φ3inch、Φ4inchサイズ
    ・クランプリング式を採用、ボンディングが不要
    ・メンテナンス性に優れ、容易にターゲッ…
  • 2024-05-06 00:00:00.0
    NEW 製品ニュース多元マルチスパッタリング装置【MiniLab-125】Φ8"対応 SiCコーティング 1000℃ヒーターステージ 搭載！コンパクトサイズ！
    多元マルチスパッタリング装置（Φ8inch基板対応）
    ・3元同時成膜 + 1元PulseDCスパッタ
    ・RF500W, DC850W両電源を3元カソード（Source1, 2, 3）へ自在に配置変更
    ・5KW PulseDC電源も搭載 → 専用カソード（4）で使用
    ・基板加熱ステージ Max…
  • 2024-05-06 00:00:00.0
    NEW カタログニュース【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置】カタログを一新しました！
    この度、MiniLabシリーズ薄膜実験装置のカタログを一新しました。

    【MiniLabシリーズの特徴】
    ◉スパッタ、蒸着（抵抗加熱・有機・EB）、アニール、プラズマエッチング等に対応
    ◉モジュラー式 フレキシブルにコンポーネントの組合せを構成（ソース複合型、マルチチャンバーも可能）
    ◉コ…
  • 2024-05-06 00:00:00.0
    NEW 製品ニュース☆★☆★【nanoCVD-WGP】ウエハースケール・グラフェン/カーボンナノチューブ合成装置 ☆★☆★
    Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。
    熱CVD、低温～高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給系統、基板加熱ヒーターなどご要望により構成をカスタマイズ致します。
    【装置構成例】
    ・基板：C…
  • 2024-04-28 00:00:00.0
    製品ニュース【セラミック・トップ・ヒーター Max1800℃】PVD/CVD薄膜開発用真空ホットプレート_Φ1inch〜Φ4inch
    半導体, 電子基板等の真空薄膜実験用途に最適!
    真空装置内でのシリコン, 化合物, サファイア基板等の加熱・成膜実験用に活用いただけます。
    CVD, スパッタリング等の真空装置用超高温Max1800℃基板加熱ヒーター
    プロセスに応じたエレメント、材料の選定が可能
    ◉ Maxエレメント温度
    …
  • 2024-04-28 00:00:00.0
    カタログニュース【SHシリーズ 基板加熱ヒーター_Max 850℃】CVD, PVD薄膜実験用に最適
    テルモセラ・ジャパン【基板加熱ヒーター】CVD, PVD等の薄膜実験用に最適な1inch〜4inch超高温基板加熱ヒーターのカタログの最新版に更新しました。
    ◉ 最高使用温度850℃（SH-IN）、1100℃（SH-BN）
    基板ホルダ、上下昇降機構・基板回転機構・RFバイアスなどのカスタマイズ品…
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