テルモセラ・ジャパン株式会社

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【セラミック・トップ・ヒーター Max1800℃】PVD/CVD薄膜開発用真空ホットプレート_Φ1inch〜Φ4inch

2024-04-28 00:00:00.0  NEW
半導体, 電子基板等の真空薄膜実験用途に最適!
真空装置内でのシリコン, 化合物, サファイア基板等の加熱・成膜実験用に活用いただけます。
CVD, スパッタリング等の真空装置用超高温Max1800℃基板加熱ヒーター
プロセスに応じたエレメント、材料の選定が可能
◉ Maxエレメント温度
◎ 真空中:1000℃（NiCr）,1200℃（Gr）,1800℃（C/C）
◎ 大気中:500℃…
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セラミック・トップ・ヒーター2inch用の参考写真

ニュース一覧

54件中 31〜45件を表示中
表示件数
15件
  • 2024-04-22 00:00:00.0
    NEW 製品ニュース★【マグネトロンスパッタリングカソード】★ テルモセラ・ジャパン
    不純物なく金属・絶縁物等を堆積するRF, DC, パルスDC対応高効率マグネトロンスパッタカソード。メンテナンス性にも優れます。
    【特徴】
    ・高真空対応
    ・Φ2inch、Φ3inch、Φ4inchサイズ
    ・クランプリング式を採用、ボンディングが不要
    ・メンテナンス性に優れ、容易にターゲッ…
  • 2024-04-22 00:00:00.0
    NEW カタログニュース多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】
    Φ2inchカソード x 4基搭載
    同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1
    プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能
    MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング…
  • 2024-04-22 00:00:00.0
    NEW 製品ニュースウエハーアニール装置【ANNEAL】Max1000℃ APC自動圧力制御 MFC x3系統 Φ4〜6inch基板対応
    Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"〜最大6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar）

    [ANNEAL]は、ウエハー等の基板を安定したプロセス雰囲気にて高温熱処理が可能な研究開発用アニール装置です。

    高真空水冷式SUSチ…
  • 2024-04-22 00:00:00.0
    NEW 製品ニュース蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab-E080A/S060A】
    2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ - 蒸着、など）をロードロックでシームレスに連結。Moorfield社独自のロードロックシステムにより、左右・後方へのプロセス室への連結も可能（写真下）。
    1. MiniLab-E080A（蒸着装置）
    ・EB蒸着:7ccるつぼ…
  • 2024-04-22 00:00:00.0
    NEW 製品ニュース☆★☆スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】☆★☆
    スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに金属蒸着・有機蒸着・スパッタカソードを設置
    抵抗加熱蒸着源（金属蒸着）、有機蒸着源（有機材料）、マグネトロンスパッタ（金属・絶縁材）、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です…
  • 2024-04-11 00:00:00.0
    企業ニュース【テルモセラ・ジャパン】 研究開発用各種実験装置・温度計測機器
    Endless possibility_thermal engineering　いつの時代でも欠かす事のできない「熱」に対する尽きぬ需要、研究開発ニーズに少しでもお役に立てるべく、最新の熱エンジニアリング、温度計測技術を紹介してまいりたいと考えます。当社は放射温度センサ等の温度計測機器、半導体・電子…
  • 2024-04-11 00:00:00.0
    製品ニュース【MiniLab-125】 多元マルチスパッタ装置（Φ8"対応）1000℃ヒーターステージ(SiCコーティング ）搭載！コンパクトサイズ！
    多元マルチスパッタリング装置（Φ8inch基板対応）
    ・3元同時成膜 + 1元PulseDCスパッタ
    ・RF500W, DC850W両電源を3元カソード（Source1, 2, 3）へ自在に配置変更
    ・5KW PulseDC電源も搭載 → 専用カソード（4）で使用
    ・基板加熱ステージ Max…
  • 2024-04-11 00:00:00.0
    カタログニュース◆◇◆【nanoCVD-8G/8N】 グラフェン/CNT合成装置◆◇◆
    ◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール
    ◉ 急速昇温：RT→1100℃/約3分間
    ◉ 処理時間わずか30分！
    ◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機

    ◆特徴◆
    ・5inchタッチパネルによる簡単操作・レシピ管理
    ・最大30レシピ，30ste…
  • 2024-04-11 00:00:00.0
    製品ニュース◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置
    OLED, OPV, OTFT等の有機薄膜蒸着用途に最適。温度応答性/安定性に優れた低温有機蒸着源、金属膜用高温蒸着源を採用。

    簡単タッチパネル操作でPLC全自動制御、操作性・メンテナンス性にも優れたR&D用真空蒸着装置。
    難しい操作手順を必要とせずどなたでも直感的に操作ができる分か…
  • 2024-04-11 00:00:00.0
    製品ニュース◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置
    Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"〜最大6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar）

    [ANNEAL]は、ウエハー等の基板を安定したプロセス雰囲気にて高温熱処理が可能な研究開発用アニール装置です。

    高真空水冷式SUSチ…
  • 2024-04-11 00:00:00.0
    カタログニュース◇◆◇ nanoPVD-S10A マグネトロンスパッタリング装置 ◇◆◇
    研究開発用RF/DCマグネトロン式スパッタリング装置です。
    高性能・多機能にも関わらず、実験室の限られたスペースにもフィットするコンパクトサイズ、7inch前面タッチパネルによる簡単操作。
    ● 到達圧力 5x10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！）
    ● 膜均一性 ±3%
    ● 多彩な…
  • 2024-04-11 00:00:00.0
    カタログニュース★【マグネトロンスパッタリングカソード】★ テルモセラ・ジャパン
    不純物なく金属・絶縁物等を堆積するRF, DC, パルスDC対応高効率マグネトロンスパッタカソード。メンテナンス性にも優れます。
    【特徴】
    ・高真空対応
    ・Φ2inch、Φ3inch、Φ4inchサイズ
    ・クランプリング式を採用、ボンディングが不要
    ・メンテナンス性に優れ、容易にターゲッ…
  • 2024-04-11 00:00:00.0
    製品ニュース多元マルチスパッタリング装置【MiniLab-125】Φ8"対応 SiCコーティング 1000℃ヒーターステージ 搭載！コンパクトサイズ！
    多元マルチスパッタリング装置（Φ8inch基板対応）
    ・3元同時成膜 + 1元PulseDCスパッタ
    ・RF500W, DC850W両電源を3元カソード（Source1, 2, 3）へ自在に配置変更
    ・5KW PulseDC電源も搭載 → 専用カソード（4）で使用
    ・基板加熱ステージ Max…
  • 2024-04-11 00:00:00.0
    カタログニュース【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置】カタログを一新しました！
    この度、MiniLabシリーズ薄膜実験装置のカタログを一新しました。

    【MiniLabシリーズの特徴】
    ◉スパッタ、蒸着（抵抗加熱・有機・EB）、アニール、プラズマエッチング等に対応
    ◉モジュラー式 フレキシブルにコンポーネントの組合せを構成（ソース複合型、マルチチャンバーも可能）
    ◉コ…
  • 2024-04-11 00:00:00.0
    製品ニュース☆★☆★【nanoCVD-WGP】ウエハースケール・グラフェン/カーボンナノチューブ合成装置 ☆★☆★
    Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。
    熱CVD、低温～高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給系統、基板加熱ヒーターなどご要望により構成をカスタマイズ致します。
    【装置構成例】
    ・基板：C…
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