テルモセラ・ジャパン株式会社

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ホットステージ【基板加熱機構】超高温基板加熱ステージ Max1800℃_Φ2〜Φ6inch

2024-10-15 00:00:00.0 
半導体, 電子デバイス等の開発, 真空薄膜プロセス用【高温基板加熱機構】
シリコン基板, サファイア基板, 化合物基板他様々な成膜実験用に活用いただけます。
CVD, スパッタ等の真空装置用超高温Max1800℃基板加熱条件に応じたエレメント、材料の選定が可能
◉ 超高真空・不活性ガス・O2・各種プロセスガス雰囲気に対応
◉ 基板上下/回転機構及びRF/DCバイアス印加可能
◉ 雰囲気に…
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超高温基板加熱機構【ホットステージ】製品参考写真

ニュース一覧

59件中 46〜59件を表示中
表示件数
15件
  • 2024-10-13 00:00:00.0
    製品ニュース4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S060】
    Φ2inchカソード x 4基搭載
    同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1
    プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能
    MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング…
  • 2024-10-13 00:00:00.0
    製品ニュース蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab-E080A/S060A】
    2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ - 蒸着、など）をロードロックでシームレスに連結。Moorfield社独自のロードロックシステムにより、左右・後方へのプロセス室への連結も可能（写真下）。
    1. MiniLab-E080A（蒸着装置）
    ・EB蒸着:7ccるつぼ…
  • 2024-10-13 00:00:00.0
    カタログニュース【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置】カタログを一新しました！
    この度、MiniLabシリーズ薄膜実験装置のカタログを一新しました。

    【MiniLabシリーズの特徴】
    ◉スパッタ、蒸着（抵抗加熱・有機・EB）、アニール、プラズマエッチング等に対応
    ◉モジュラー式 フレキシブルにコンポーネントの組合せを構成（ソース複合型、マルチチャンバーも可能）
    ◉コ…
  • 2024-10-13 00:00:00.0
    製品ニュース☆★☆スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】☆★☆
    スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに金属蒸着・有機蒸着・スパッタカソードを設置
    抵抗加熱蒸着源（金属蒸着）、有機蒸着源（有機材料）、マグネトロンスパッタ（金属・絶縁材）、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です…
  • 2024-10-13 00:00:00.0
    製品ニュース☆★☆★【nanoCVD-WGP】ウエハースケール・グラフェン/カーボンナノチューブ合成装置 ☆★☆★
    Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。
    熱CVD、低温～高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給系統、基板加熱ヒーターなどご要望により構成をカスタマイズ致します。
    【装置構成例】
    ・基板：C…
  • 2024-10-13 00:00:00.0
    カタログニュース★nano BenchTopシリーズ 薄膜実験装置★
    研究開発の現場で求められる均一性の高い「高品質」な薄膜を作成するための様々な条件を備えます。nanoシリーズはコンパクトボディに機能を凝縮した高性能装置です。
    欠陥が少なく良質な成膜に欠かせない要素である高真空環境・十分なT/S調整距離を確保する堅牢で機密性が高いステンレスチャンバー・高真空ポンプ…
  • 2024-10-12 00:00:00.0
    製品ニュース◇◆◇ nanoPVD-S10A マグネトロンスパッタリング装置 ◇◆◇
    研究開発用のRF/DCマグネトロン式スパッタリング装置です。
    高性能・多機能にも関わらず、実験室の限られたスペースにもフィットするコンパクトサイズ、7inch前面タッチパネルによる簡単操作。
    ● 到達圧力 5x10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！）
    ● 膜均一性 ±3%
    ● 多彩…
  • 2024-10-12 00:00:00.0
    カタログニュース【超高温実験炉】シリーズのアップデート情報_2024.7
    お客様各位

    当社では、従来品より更に高機能・操作性に優れた高温実験炉を近々にアップデートいたします。
    本年9月末までに製品ラインナップを一新し、あらたな装置情報をご紹介できることと思います。
    大学・研究機関向けの最小構成「Mini-BENCH」を基本とし、基本機能を充実、様々なオプション機…
  • 2024-10-12 00:00:00.0
    カタログニュース◆◆◆ 【Nanofurnace】Model. BWS-NANO 熱CVD装置 ◆◆◆
    多目的に使える、高精度プロセスコントロール【ホットウオール式熱CVD装置】
    ◉ グラフェン, カーボンナノチューブ
    ◉ ZnOナノワイヤ
    ◉ SiO2等の絶縁膜など
    その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに活用いただけます。
  • 2024-10-12 00:00:00.0
    カタログニュース☆★☆ 【TCF-C500 超高温小型実験炉】Max 2900℃ ☆★☆
    コンパクト・省スペース・省エネルギー！ 高性能 R&D用超高温実験炉
    小片試料を最高2900℃まで加熱実験ができるR&D用超高温小型実験炉。
    実験室での超高温加熱実験、新素材開発などのさまざまな焼成実験を行うことができます。

    ◆主な特徴◆
    ・省スペース
    ・ロータリー…
  • 2024-10-12 00:00:00.0
    カタログニュース□■□■【Mini-BENCH 】超高温卓上型実験炉 Max2000℃ □■□■
    卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃

    ◆装置構成◆
    予算・目的に応じてご要望の構成をご提案致します。
    (A)最小構成：チャンバー + 温度制御ユニット
    (B)上記最小構成(A) + 真空排気系（ポンプ、ゲージ、バルブ・真空配管類）

    ◉ 円筒状ヒーター：るつぼ内…
  • 2024-10-12 00:00:00.0
    カタログニュース◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置
    OLED, OPV, OTFT等の有機薄膜蒸着用途に最適。温度応答性/安定性に優れた低温有機蒸着源、金属膜用蒸着源を採用。

    簡単タッチパネル操作でPLC自動制御、各種設定を一元管理。
    難しい操作手順を必要とせずどなたでも直感的に操作ができる分かりやすいHMI。
    USBケーブルでPC接続、ロ…
  • 2024-10-12 00:00:00.0
    製品ニュースウエハーアニール炉【MiniLab-WCF】Max2000℃_超高温ウエハーアニール専用（4inch〜8inch）
    Max2000℃ Φ6〜8inchウエハー専用高温アニール装置 小規模生産も可能なマルチ雰囲気ウエハーアニール装置

    ◾️ Max2000℃
    ◾️ 有効加熱範囲：Φ6〜Φ8inch 枚葉式、又はバッチ式（多段5枚カセット）
    ◾️ ヒーター制御：1ゾーン、又は2ゾーン（カスケード制御）
    ◾️…
  • 2024-10-12 00:00:00.0
    製品ニュース高温アニール炉 ◉Mini-BENCH-prism セミオート式 超高温実験炉 Max2000℃
    ◉最高使用温度 Max2000℃
    ◉PLCセミオートコントロール
    卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種
    「真空/パージサイクル」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御
    最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース…
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