テルモセラ・ジャパン株式会社

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★☆★☆【MiniLab-026】R&D開発用 小型薄膜実験装置★☆★☆

2024-04-22 00:00:00.0  NEW
必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。
マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源 最大2、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、RFエッチングも…
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MiniLab-LT26A 小型真空蒸着装置

ニュース一覧

54件中 16〜30件を表示中
表示件数
15件
  • 2024-04-22 00:00:00.0
    NEW 製品ニュースウエハーアニール装置【ANNEAL】Max1000℃ APC自動圧力制御 MFC x3系統 Φ4〜6inch基板対応
    Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"〜最大6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar）

    [ANNEAL]は、ウエハー等の基板を安定したプロセス雰囲気にて高温熱処理が可能な研究開発用アニール装置です。

    高真空水冷式SUSチ…
  • 2024-04-22 00:00:00.0
    NEW 製品ニュース蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab-E080A/S060A】
    2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ - 蒸着、など）をロードロックでシームレスに連結。Moorfield社独自のロードロックシステムにより、左右・後方へのプロセス室への連結も可能（写真下）。
    1. MiniLab-E080A（蒸着装置）
    ・EB蒸着:7ccるつぼ…
  • 2024-04-22 00:00:00.0
    NEW 製品ニュース☆★☆スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】☆★☆
    スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに金属蒸着・有機蒸着・スパッタカソードを設置
    抵抗加熱蒸着源（金属蒸着）、有機蒸着源（有機材料）、マグネトロンスパッタ（金属・絶縁材）、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です…
  • 2024-04-11 00:00:00.0
    企業ニュース【テルモセラ・ジャパン】 研究開発用各種実験装置・温度計測機器
    Endless possibility_thermal engineering　いつの時代でも欠かす事のできない「熱」に対する尽きぬ需要、研究開発ニーズに少しでもお役に立てるべく、最新の熱エンジニアリング、温度計測技術を紹介してまいりたいと考えます。当社は放射温度センサ等の温度計測機器、半導体・電子…
  • 2024-04-11 00:00:00.0
    製品ニュース【セラミック・トップ・ヒーター Max1800℃】PVD/CVD薄膜開発用真空ホットプレート_Φ1inch〜Φ4inch
    半導体, 電子基板等の真空薄膜実験用途に最適!
    真空装置内でのシリコン, 化合物, サファイア基板等の加熱・成膜実験用に活用いただけます。
    CVD, スパッタリング等の真空装置用超高温Max1800℃基板加熱ヒーター
    プロセスに応じたエレメント、材料の選定が可能
    ◉ Maxエレメント温度
    …
  • 2024-04-11 00:00:00.0
    製品ニュース【MiniLab-125】 多元マルチスパッタ装置（Φ8"対応）1000℃ヒーターステージ(SiCコーティング ）搭載！コンパクトサイズ！
    多元マルチスパッタリング装置（Φ8inch基板対応）
    ・3元同時成膜 + 1元PulseDCスパッタ
    ・RF500W, DC850W両電源を3元カソード（Source1, 2, 3）へ自在に配置変更
    ・5KW PulseDC電源も搭載 → 専用カソード（4）で使用
    ・基板加熱ステージ Max…
  • 2024-04-11 00:00:00.0
    カタログニュース【SHシリーズ 基板加熱ヒーター_Max 850℃】CVD, PVD薄膜実験用に最適
    テルモセラ・ジャパン【基板加熱ヒーター】CVD, PVD等の薄膜実験用に最適な1inch〜4inch超高温基板加熱ヒーターのカタログの最新版に更新しました。
    ◉ 最高使用温度850℃（SH-IN）、1100℃（SH-BN）
    基板ホルダ、上下昇降機構・基板回転機構・RFバイアスなどのカスタマイズ品…
  • 2024-04-11 00:00:00.0
    製品ニュース■□■ R&D用小型縦型炉 TVF-110 ■□■
    ローコスト 必要最小構成（手動制御）管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用可能
    小片試料〜3inch waferまでの小基板用 サセプタ手動昇降式縦型実験炉
    大学・企業研究室での基礎実験用に最適な基礎実験用ローコスト版縦型炉

    【用途】
    ◉ 半導体・太陽電池・燃料電池・電子基板等の熱処理
    ◉…
  • 2024-04-11 00:00:00.0
    カタログニュース★★テルモセラ・ジャパン_薄膜実験装置_「PRODUCTS GUIDE 2022」★★
    半導体・電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用各種実験装置、薄膜実験装置を紹介。

    研究開発分野向け、各種薄膜実験装置・コンポーネントを紹介します。
    【nano Benchtopシリーズ】
    卓上型・ハイパフォーマンス！nano Benchtopシリーズ薄膜実験装置
    コンパクト…
  • 2024-04-11 00:00:00.0
    製品ニュース【Lab6放電プラズマ生成ヒーターユニット】C/Cコンポジットヒーター
    ◉ 超高温Max1800℃円筒状加熱ヒーター
    ご指定の仕様にて都度製作致します。
    * 従来の金属ヒーターでは不可能だった高温領域が必要なアプリケーションに応用検討下さい。
    ◎ 使用可能環境：真空中, 不活性ガス中 etc..
    ◎ 発熱体：Graphite, C/Cコンポジットヒーター、など。…
  • 2024-04-11 00:00:00.0
    カタログニュース◆◇◆【nanoCVD-8G/8N】 グラフェン/CNT合成装置◆◇◆
    ◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール
    ◉ 急速昇温：RT→1100℃/約3分間
    ◉ 処理時間わずか30分！
    ◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機

    ◆特徴◆
    ・5inchタッチパネルによる簡単操作・レシピ管理
    ・最大30レシピ，30ste…
  • 2024-04-11 00:00:00.0
    製品ニュース◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置
    OLED, OPV, OTFT等の有機薄膜蒸着用途に最適。温度応答性/安定性に優れた低温有機蒸着源、金属膜用高温蒸着源を採用。

    簡単タッチパネル操作でPLC全自動制御、操作性・メンテナンス性にも優れたR&D用真空蒸着装置。
    難しい操作手順を必要とせずどなたでも直感的に操作ができる分か…
  • 2024-04-11 00:00:00.0
    製品ニュース◆◆◆ 【Nanofurnace】Model. BWS-NANO 熱CVD装置 ◆◆◆
    多目的に使える、高精度プロセスコントロール【ホットウオール式熱CVD装置】
    ◉ グラフェン, カーボンナノチューブ
    ◉ ZnOナノワイヤ
    ◉ SiO2等の絶縁膜など
    その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに活用いただけます。
  • 2024-04-11 00:00:00.0
    カタログニュース★☆★☆【MiniLab-026】R&D用 フレキシブル薄膜実験装置★☆★☆
    必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。
    マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着…
  • 2024-04-11 00:00:00.0
    製品ニュース◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置
    Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"〜最大6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar）

    [ANNEAL]は、ウエハー等の基板を安定したプロセス雰囲気にて高温熱処理が可能な研究開発用アニール装置です。

    高真空水冷式SUSチ…
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