テルモセラ・ジャパン株式会社

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ホットステージ【基板加熱機構】超高温基板加熱ステージ Max1800℃_Φ2〜Φ6inch

2024-10-15 00:00:00.0 
半導体, 電子デバイス等の開発, 真空薄膜プロセス用【高温基板加熱機構】
シリコン基板, サファイア基板, 化合物基板他様々な成膜実験用に活用いただけます。
CVD, スパッタ等の真空装置用超高温Max1800℃基板加熱条件に応じたエレメント、材料の選定が可能
◉ 超高真空・不活性ガス・O2・各種プロセスガス雰囲気に対応
◉ 基板上下/回転機構及びRF/DCバイアス印加可能
◉ 雰囲気に…
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超高温基板加熱機構【ホットステージ】製品参考写真

ニュース一覧

59件中 16〜30件を表示中
表示件数
15件
  • 2024-10-15 00:00:00.0
    製品ニュース◆OLED◆ 有機蒸着・高温用金属蒸発源 Max1500℃
    OLED蒸発源は最高使用温度1500℃の真空装置用高温加熱ヒーターです。
    蒸発温度の高い材料も蒸発することができますので、低温有機蒸着（～ 800℃）セルから、高温抵抗加熱蒸着（～ 1500℃）MBEセルまで、真空高温ヒーター・蒸着セルとして幅広い様々な用途に活用いただけます。
    シャッター・アク…
  • 2024-10-13 00:00:00.0
    企業ニュース【テルモセラ・ジャパン】 研究開発用各種実験装置・温度計測機器
    Endless possibility_thermal engineering　いつの時代でも欠かす事のできない「熱」に対する尽きぬ需要、研究開発ニーズに少しでもお役に立てるべく、最新の熱エンジニアリング、温度計測技術を紹介してまいりたいと考えます。当社は放射温度センサ等の温度計測機器、半導体・電子…
  • 2024-10-13 00:00:00.0
    製品ニュース★☆★☆【MiniLab-026】R&D開発用 小型薄膜実験装置★☆★☆
    必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。
    マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（…
  • 2024-10-13 00:00:00.0
    製品ニュース【MiniLab-125】 多元マルチスパッタ装置（Φ8"対応）1000℃ヒーターステージ(SiCコーティング ）搭載！コンパクトサイズ！
    多元マルチスパッタリング装置（Φ8inch基板対応）
    ・3元同時成膜 + 1元PulseDCスパッタ
    ・RF500W, DC850W両電源を3元カソード（Source1, 2, 3）へ自在に配置変更
    ・5KW PulseDC電源も搭載 → 専用カソード（4）で使用
    ・基板加熱ステージ Max…
  • 2024-10-13 00:00:00.0
    カタログニュース【SH 真空 基板加用 高温プレートヒーター_Max 1100℃】CVD, PVD真空薄膜用
    テルモセラ・ジャパン【基板加熱ヒーター】CVD, PVD等の薄膜実験用に最適な1inch〜4inch超高温基板加熱ヒーターのカタログの最新版に更新しました。
    ◉ 最高使用温度850℃（SH-IN）、1100℃（SH-BN）
    基板ホルダ、上下昇降機構・基板回転機構・RFバイアスなどのカスタマイズ品…
  • 2024-10-13 00:00:00.0
    製品ニュース■□【PyroCouple】□■ 小型非接触式赤外線温度センサー
    小型計量・堅牢ボディ・高精度±1%・240msec高速応答 産業用機械制御用、生産現場の温度監視など多目的に応用できます。

    【特徴】
    ◎ アンプ・センサ一体型
    ◎ 4-20mA出力（標準）、0-50mV、熱電対K, J, T出力（オプション）
    ◎ 精度：±1% or ±1℃（いずれか大き…
  • 2024-10-13 00:00:00.0
    製品ニュース■□■ R&D用小型縦型炉 TVF-110 ■□■
    ローコスト 必要最小構成（手動制御）管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用可能
    小片試料〜3inch waferまでの小基板用 サセプタ手動昇降式縦型実験炉
    大学・企業研究室での基礎実験用に最適な基礎実験用ローコスト版縦型炉

    【用途】
    ◉ 半導体・太陽電池・燃料電池・電子基板等の熱処理
    ◉…
  • 2024-10-13 00:00:00.0
    製品ニュース【Lab6放電プラズマ生成 熱電子銃用ヒーター】
    真空用 超高温円筒状ヒーターユニット 最高温度1800℃（グラファイト、C/Cコンポジット）
    ご要望の仕様にて都度製作致します。
    さまざまな用途に応用できる高真空中での円筒状加熱ユニットです。
    円筒状加熱範囲内に、試料を入れた坩堝の加熱、金属・セラミック・ワイヤー状サンプルの加熱、など目的に応…
  • 2024-10-13 00:00:00.0
    カタログニュース◆◇◆【nanoCVD-8G】 グラフェン合成装置◆◇◆
    ◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール
    ◉ 急速昇温：1100℃/約3分間
    ◉ 高精度温度制御：±1℃
    ◉ 高精度APC自動圧力制御システム：ガス3系統（Ar, H2, CH4）
    ◉ グラフェン作成用標準レシピ付属
    ◉ コンパクトサイズ：405(W) x 415(D…
  • 2024-10-13 00:00:00.0
    製品ニュースBHシリーズ【UHV対応 超高温 真空薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃
    高真空対応 多彩なヒーター材質オプション。
    PVD（スパッタ、蒸着、EB等）、高温真空アニール、高温解析用基板ステージ、などに応用いただけます。
    様々なご要望仕様にカスタムメイド対応致します。

    【特徴】
    ● 予備ヒーター素線との交換が容易
    ●設置、メンテナンスが容易（M6スタッドボルト…
  • 2024-10-13 00:00:00.0
    製品ニュース■□【PyroUSB】□■ USB接続式 高精度赤外線温度センサー
    【概要】
    標準付属の「CalexConfig」とUSBケーブル（1.8m付属）でWindowsPCに接続、PC上でセンサの測定パラメータ設定、測定結果の解析・CSV出力ができます。
    1) 4-20mA出力
    2) USB出力（USBバスパワーで動作）
    3) 4-20mA/USB出力の同時使用
    …
  • 2024-10-13 00:00:00.0
    製品ニュース◆◆◆ 【Nanofurnace】Model. BWS-NANO 熱CVD装置 ◆◆◆
    多目的に使える、高精度プロセスコントロール【ホットウオール式熱CVD装置】
    ◉ グラフェン, カーボンナノチューブ
    ◉ ZnOナノワイヤ
    ◉ SiO2等の絶縁膜など
    その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに活用いただけます。
  • 2024-10-13 00:00:00.0
    製品ニュース★【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置★ テルモセラ・ジャパン
    コンパクト/省スペース、ハイスペック
    60ℓ容積 蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールを組込みことができる、様々な用途に対応可能なマルチ薄膜実験装置
    コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置
    下記蒸着源から組合せが可能
    ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4
    ・有機蒸着源 x …
  • 2024-10-13 00:00:00.0
    製品ニュース【SH 基板加熱用 高温真空ホットプレート_Max 1100℃】CVD, PVD 真空薄膜用
    テルモセラ・ジャパン【基板加熱ヒーター】CVD, PVD等の薄膜実験用に最適な1inch〜4inch超高温基板加熱ヒーターのカタログの最新版に更新しました。
    ◉ 最高使用温度850℃（SH-IN）、1100℃（SH-BN）
    基板ホルダ、上下昇降機構・基板回転機構・RFバイアスなどのカスタマイズ品…
  • 2024-10-13 00:00:00.0
    カタログニュース★☆★☆【MiniLab-026】R&D用 フレキシブル薄膜実験装置★☆★☆
    必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。
    マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着…
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