-
-
◉ 対応サイズ：φ1inch〜φ6inch
◉ 使用雰囲気：
- 真空, 不活性ガス（SH-BN）
- 真空, O2, 大気, 不活性/活性ガス中（SH-IN）
◉ 最高使用温度：
- Max 1100℃（SH-BN *O2不可）
- Max 850℃（SH-IN）
-
-
- 薄膜実験装置_「PRODUCTS GUIDE 2022」
- 半導体・電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用各種実験装置、薄膜実験装置を紹介。
- 最終更新日：2024-10-12 16:19:57.0
-
-
-
- 【SH 高温基板ヒーター】PVD, CVD用 Max1100℃
- CVD, PVD（蒸着, スパッタ等）均熱性・再現性に優れた高真空 超高温 ウエハー・小片チップ加熱用 プレートヒーター
- 最終更新日：2024-10-12 16:13:14.0
-
-
-
- BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃
- PVD、CVDなどの薄膜実験用基板加熱ヒーター均一性・昇温特性・制御性に優れたヒーターです。RF/DCバイアス仕様も可能。
- 最終更新日：2024-10-12 16:10:10.0
-
-
-
- 【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃
- 超高温基板加熱ステージに、基板昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全てが1台で可能! 'All-In-One'コンポーネント
- 最終更新日：2024-10-12 16:09:45.0
-
-
-
- ◾️真空用【CH 超高温円筒状ヒーター】Max1800℃ ◾️
- 真空用 超高温円筒状ヒーターユニット 最高温度1800℃（グラファイト、C/Cコンポジット）
- 最終更新日：2024-10-12 16:12:42.0
-
-
-
- ◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置
- Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar）
- 最終更新日：2024-10-12 16:01:35.0
-
-
-
- 【Mini-BENCH 】超高温卓上型実験炉 Max2000℃
- 卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
- 最終更新日：2024-10-12 15:40:07.0
-
-
-
- TCF-C500 超高温小型実験炉Max2900℃
- コンパクト・省スペース・省エネルギー！ 高性能 R&D用超高温実験炉
- 最終更新日：2024-10-12 16:13:58.0
-
-
-
- MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉2000℃
- Φ6〜8inch超高温ウエハーアニール装置 研究開発から小規模生産まで多目的に幅広く対応するハイパフォーマンス機
- 最終更新日：2024-10-12 16:15:35.0
-
-
-
- ◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆
- ローコスト 必要最小構成（手動制御）管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用可能
- 最終更新日：2024-10-12 16:14:19.0
-
-
-
- Products Guide_【超高温実験炉 製品ガイド」
- テルモセラ・ジャパン研究開発用実験炉を紹介。燃料電池・セラミックス等の材料開発・黒鉛・等の超高温実験に活用頂けます。
- 最終更新日：2024-10-12 15:39:06.0
-
-
-
- 【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置
- 【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能CVD装置
- 最終更新日：2024-10-12 15:40:57.0
-
-
-
- 【nanoCVD-8G】グラフェン合成装置
- ◉ 短時間 1バッチわずか30分で容易にグラフェン合成実験が可能 ◉ 高精度温度・圧力制御 ◉ 洗練されたソフトウエア
- 最終更新日：2024-10-12 16:20:21.0
-
-
-
- 【マグネトロンスパッタリングカソード】
- 不純物なく金属・絶縁物等を堆積するRF, DC, パルスDC対応高効率マグネトロンスパッタカソード。メンテナンス性にも優れます。
- 最終更新日：2024-10-12 15:51:20.0
-
-
-
- 【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置
- 高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式スパッタリング装置
- 最終更新日：2024-10-12 15:47:56.0
-