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安全性・操作性を重視した、『ウエハー焼成』専用R&D用超高温実験炉。
◆主な特徴◆
・習熟度を問わずどなたでも簡単に操作できます。
・自動シーケンス操作:試料設置後、煩雑な操作が必要無く、ボタン操作のみで真空引〜ベント〜ガス導入を実行
・上部扉より内部試料室にアクセス
・有効加熱範囲:φ2-φ8inch(その他サイズ可能)
・高真空雰囲気対応(ターボ追加:1x10-5Torr)
・インターロック8系統の状態が前面LEDランプで確認
◆基本仕様◆
・発熱体:CCコンポジット(WCF), タングステン(WMF)
・断熱材:グラファイト(WCF), タングステン/モリブデン(WMF)
・電源仕様:AC200V 70A 14KW(*8inch 2ゾーンの場合)
・Max2000℃
・使用雰囲気:真空・不活性ガス(WCF), 真空・不活性ガス・還元雰囲気(WMF)
・プログラム温調計、C熱電対
◆オプション◆
・2ゾーン制御(*6, 8inch)
・記録計
・ターボ分子ポンプ
・ウエハホルダー
◆主な用途◆
・SiC, GaN等電子デバイス
・他先端材料開発に応用
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- 表示件数
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- スパッタリング装置『MiniLab-060』
- 蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み立てることができるセミカスタムメイド薄膜実験装置
- 最終更新日:2023-09-20 21:06:33.0
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- 真空蒸着装置『MiniLab-080』
- 蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
- 最終更新日:2023-09-15 00:45:21.0
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- スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』
- 高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式スパッタリング装置
- 最終更新日:2023-08-26 16:23:56.0
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- 真空蒸着装置『MiniLab-090』(グローブボックス用)
- グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
- 最終更新日:2023-09-15 01:52:40.0
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- 真空蒸着装置『MiniLab(ミニラボ)シリーズ』
- モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。
- 最終更新日:2023-09-20 12:13:45.0
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- 真空蒸着装置『nanoPVD-T15A』
- 限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新の真空蒸着技術の全てを収納しました。
- 最終更新日:2023-09-15 14:28:31.0
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- スパッタリング装置『MiniLab-026』
- 小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成
- 最終更新日:2023-09-20 21:00:25.0
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- 真空蒸着装置『MiniLab-026』
- 小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成
- 最終更新日:2023-09-20 12:28:53.0
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- アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
- 最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース実験炉
- 最終更新日:2023-04-01 17:18:48.0
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