-
-
ローコスト 必要最小構成（手動制御）管状炉・拡散炉・熱CVD用加熱リアクター部として応用可能
小片試料〜3inch waferまでの小基板用 サセプタ手動昇降式縦型実験炉
大学・企業研究室での基礎実験用に最適な基礎実験用ローコスト版縦型炉
主な仕様】
・炉内温度Max1200℃, 試料最大温度Max950℃
・小片試料：数ミリサイズ〜3inchウエハーサイズまで対応
・基板枚数：1〜3枚程度
・石英サセプタ手動昇降式：停止位置目盛、クランパ付き
・炉芯管：Φ100 x Φ95 x 470L mm
・昇降：手動回転ハンドル
・温度調節：PIDプログラム温度調節計
・熱電対：2対式K熱電対x1（制御用、過昇温用）、Kタイプ素線（炉芯測温用）
-
- 1
- 2
-
- 表示件数
- 30件
-
-
- スパッタリング装置『MiniLab-060』
- 蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み立てることができるセミカスタムメイド薄膜実験装置
- 最終更新日：2024-10-12 16:08:07.0
-
-
-
- 真空蒸着装置『MiniLab-080』
- 蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
- 最終更新日：2024-10-12 15:42:30.0
-
-
-
- スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』
- 高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式スパッタリング装置
- 最終更新日：2024-10-12 15:48:46.0
-
-
-
- 真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）
- グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
- 最終更新日：2024-10-12 15:49:07.0
-
-
-
- 真空蒸着装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』
- モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。
- 最終更新日：2024-10-12 16:02:46.0
-
-
-
- 真空蒸着装置『nanoPVD-T15A』
- 限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新の真空蒸着技術の全てを収納しました。
- 最終更新日：2024-10-12 15:49:37.0
-
-
-
- スパッタリング装置『MiniLab-026』
- 小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成
- 最終更新日：2024-10-12 16:03:43.0
-
-
-
- 真空蒸着装置『MiniLab-026』
- 小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成
- 最終更新日：2024-10-12 16:06:07.0
-
-
-
- アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
- 最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 最終更新日：2024-10-12 16:13:36.0
-
-
- 1
- 2
-
- 表示件数
- 30件