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卓上サイズカーボン実験炉・省スペース 最高使用温度2200℃（短時間）2000℃（連続）
還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
◉ 卓上サイズ 省スペース：328 x 220 x 250mm
◉ るつぼ内サンプル焼成用（るつぼΦ50 x 100）, 又はΦ1", Φ2"ウエハー焼成用フラットヒーター
◉ ハイスペック&ハイコストパフォーマンス
◉ 簡単メンテナンス：部品交換が容易
◉ シンプルな構成、優れたメンテナンス性
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- 30件
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- 真空蒸着装置『MiniLab-080』
- 蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
- 最終更新日：2024-10-12 15:42:30.0
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- スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』
- 高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式スパッタリング装置
- 最終更新日：2024-10-12 15:48:46.0
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- 真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）
- グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
- 最終更新日：2024-10-12 15:49:07.0
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- 真空蒸着装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』
- モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。
- 最終更新日：2024-10-12 16:02:46.0
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- 真空蒸着装置『nanoPVD-T15A』
- 限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新の真空蒸着技術の全てを収納しました。
- 最終更新日：2024-10-12 15:49:37.0
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- スパッタリング装置『MiniLab-026』
- 小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成
- 最終更新日：2024-10-12 16:03:43.0
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- 真空蒸着装置『MiniLab-026』
- 小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成
- 最終更新日：2024-10-12 16:06:07.0
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- アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
- 最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 最終更新日：2024-10-12 16:13:36.0
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- 表示件数
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