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OLED, OPV, OTFT等の有機薄膜蒸着用途に最適。温度応答性/安定性に優れた低温有機蒸着源、金属膜用高温蒸着源を採用。
コンパクトサイズにも関わらず、基本性能・膜質・均一性・操作性の全てを犠牲にせず、スタンドアローン大型機と同様の性能を実現しました。
直感的に操作ができる分かりやすいHMI。USBケーブルでWindows PCに接続し、ログを保存、自動成膜レシピを作成保存。
◉寸法：804(W) x 530(D) x 600(H)mm
◉重量：40〜70kg（装置構成による）
◉優れた基本性能
・到達真空度 5x10-5Pascal
・ターボ分子ポンプ
・Φ2"もしくはΦ4"基板
◉蒸着源
・金属蒸着源 x 最大2基
・有機蒸着源 x 最大4基（抵抗加熱TEと混在の場合、2基まで）
◉7"タッチパネル
◉連続成膜
・成膜プログラム自動制御
・30種類のレシピ登録
・高精度ワイドレンジ真空計
◉豊富なオプション
・基板回転
・上下昇降 300mmストローク
・基板、ソースシャッター
・ドライポンプ
・USBでWindows PCに接続、ログの保存管理
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- 真空用 超高温円筒状ヒーターユニット 最高温度1800℃（グラファイト、C/Cコンポジット）
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- 【PyroNFC】スマートホン設定式赤外線放射温度センサー
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