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OLED（有機EL）, OPV（有機薄膜太陽電池）, OTFT（有機薄膜太陽電池）, 又, グラフェン・2D材料（遷移金属ダイカルコゲナイドなどの二次元層状無機ナノ材料）などの成膜プロセスでは、酸素・水分から隔離された不活性ガス雰囲気で試料を取扱う必要があります。
MiniLab-026/00-GBでは、PCD/CVDチャンバーをGB内に収納することにより有機膜用途の「酸素・水分フリー」実験環境をコンパクトな省スペース環境で実現。
【特徴】
◉ CVD/PVD成膜、スピンコート塗布・ホットプレートベーキングなど一連の作業を外気に晒すことなく、GB内でシームレスに行うことができます。
◉ 省スペース：背面にチャンバーがせり出しませんので、スペースを取りません。
【MiniLab対象】
◉ MiniLab-026（26ℓ容積）：金属/絶縁物/有機材料蒸着、スパッタリグ、RF/DCエッチング、アニール
◉ MiniLab-090（90ℓ容積）：金属/絶縁物/有機材料蒸着、スパッタリグ、RF/DCエッチング、アニール
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- スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】
- 真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な「複合型」薄膜実験装置 nanoPVD-ST15A
- 最終更新日：2024-10-12 16:19:35.0
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- 真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』
- 卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
- 最終更新日：2024-10-12 15:40:36.0
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- 真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
- 最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 最終更新日：2024-10-12 16:14:45.0
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- アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』
- Φ6〜8inch超高温ウエハーアニール装置 研究開発から小規模生産まで多目的に幅広く対応するハイパフォーマンス機
- 最終更新日：2024-10-12 16:18:41.0
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- アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』
- Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar）
- 最終更新日：2024-10-12 15:51:43.0
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- スパッタリング装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』
- モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。
- 最終更新日：2024-10-12 15:57:47.0
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- スパッタリング装置『MiniLab-060』
- 蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み立てることができるセミカスタムメイド薄膜実験装置
- 最終更新日：2024-10-12 16:08:07.0
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- 真空蒸着装置『MiniLab-080』
- 蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
- 最終更新日：2024-10-12 15:42:30.0
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- スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』
- 高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式スパッタリング装置
- 最終更新日：2024-10-12 15:48:46.0
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- 真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）
- グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
- 最終更新日：2024-10-12 15:49:07.0
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- 真空蒸着装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』
- モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。
- 最終更新日：2024-10-12 16:02:46.0
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- 真空蒸着装置『nanoPVD-T15A』
- 限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新の真空蒸着技術の全てを収納しました。
- 最終更新日：2024-10-12 15:49:37.0
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- スパッタリング装置『MiniLab-026』
- 小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成
- 最終更新日：2024-10-12 16:03:43.0
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- 真空蒸着装置『MiniLab-026』
- 小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成
- 最終更新日：2024-10-12 16:06:07.0
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- アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
- 最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 最終更新日：2024-10-12 16:13:36.0
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