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80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着(金属/絶縁物/有機材),EB蒸着, RF/DC兼用マグネトロン式スパッタ, ドライエッチ, CVD,アニールなどの幅広い目的に対応。
・抵抗加熱蒸着源 x 最大4
・有機蒸着源 x 最大4
・マグネトロンスパッタリングカソード x 4
・電子ビーム蒸着
・最大Φ8inch加熱ステージ(標準500℃, Max1000℃)
・RF/DCエッチングシステム
・CVD(熱CVD, PECVD)
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- BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃
- PVD、CVDなどの薄膜実験用基板加熱ヒーター均一性・昇温特性・制御性に優れたヒーターです。RF/DCバイアス仕様も可能。
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- 【SH 高温基板ヒーター】PVD, CVD用 Max1100℃
- CVD, PVD(蒸着, スパッタ等)均熱性・再現性に優れた高真空 超高温 ウエハー・小片チップ加熱用 プレートヒーター
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- 【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃
- 超高温基板加熱ステージに、基板昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全てが1台で可能! 'All-In-One'コンポーネント
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- ◾️真空用【CH 超高温円筒状ヒーター】Max1800℃ ◾️
- 真空用 超高温円筒状ヒーターユニット 最高温度1800℃(グラファイト、C/Cコンポジット)
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- 【Mini-BENCH 】超高温卓上型実験炉 Max2000℃
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- TCF-C500 超高温小型実験炉Max2900℃
- コンパクト・省スペース・省エネルギー! 高性能 R&D用超高温実験炉
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- ◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆
- ローコスト 必要最小構成(手動制御)管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用可能
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- テルモセラ・ジャパン研究開発用実験炉を紹介。燃料電池・セラミックス等の材料開発・黒鉛・等の超高温実験に活用頂けます。
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- ◆Mini-BENCH-prismセミオート式 超高温実験炉◆
- 最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース実験炉
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- スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】
- 真空蒸着(金属・有機蒸着源)、スパッタリングカソードの混在設置が可能な「複合型」薄膜実験装置 nanoPVD-ST15A
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- 真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』
- 卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
- 最終更新日:2024-10-12 15:40:36.0
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- 真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
- 最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース実験炉
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- アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』
- Φ6〜8inch超高温ウエハーアニール装置 研究開発から小規模生産まで多目的に幅広く対応するハイパフォーマンス機
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- アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』
- Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板対応、 高真空アニール装置(<5 × 10-7 mbar)
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- スパッタリング装置『MiniLab(ミニラボ)シリーズ』
- モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。
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