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【nanoETCH（ナノエッチ）】Model. ETCH5A
＜30W（制御精度10mA）低出力RFエッチングによる、精細でダメージレスなエッチング処理を実現。
【特徴・主なアプリケーション】
• 2D（遷移金属カルゴゲナイド, 材料転写後のグラフェン剥離）：表面改質クリーニング
• PMMA, PPA等のポリマーレジスト除去
• テフロン基板などのダメージを受けやすい基板での表面改質、エッチング
• h-BNサイドウオールエッチング（*『フッ化ガス供給モジュール』オプション, SF6ガス系統要）
• SiO2エッチング（*『フッ化ガス供給モジュール』オプション, CHF3ガス系統要）
【仕様】
◉ 対応基板：〜Φ6inch
◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動シーケンス
◉ APC自動圧力制御
◉ ガス最大3系統（Ar, O2標準付属） *N2、又はフッ化ガス系増設
◉ PCソフトウエア付属：自動エッチングレシピ作成・保存・保存、データロギング
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- スパッタリング装置『MiniLab-060』
- 蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み立てることができるセミカスタムメイド薄膜実験装置
- 最終更新日：2024-10-12 16:08:07.0
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- 真空蒸着装置『MiniLab-080』
- 蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
- 最終更新日：2024-10-12 15:42:30.0
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- スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』
- 高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式スパッタリング装置
- 最終更新日：2024-10-12 15:48:46.0
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- 真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）
- グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
- 最終更新日：2024-10-12 15:49:07.0
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- 真空蒸着装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』
- モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。
- 最終更新日：2024-10-12 16:02:46.0
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- 真空蒸着装置『nanoPVD-T15A』
- 限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新の真空蒸着技術の全てを収納しました。
- 最終更新日：2024-10-12 15:49:37.0
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- スパッタリング装置『MiniLab-026』
- 小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成
- 最終更新日：2024-10-12 16:03:43.0
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- 真空蒸着装置『MiniLab-026』
- 小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成
- 最終更新日：2024-10-12 16:06:07.0
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- アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
- 最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 最終更新日：2024-10-12 16:13:36.0
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