スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに金属蒸着・有機蒸着・スパッタカソードを設置
抵抗加熱蒸着源(金属蒸着)、有機蒸着源(有機材料)、マグネトロンスパッタ(金属・絶縁材)、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です。
◉組み合わせは3種類
1. スパッタカソード + 抵抗加熱蒸着源x2
2. スパッタカソード + 有機蒸着源x2
3. スパッタカソード + 抵抗加熱源x1 + 有機蒸着源x1(*DCスパッタのみ)
・蒸着範囲:Φ4inch/Φ100mm
・真空排気系:ターボ分子ポンプ + 補助ポンプ(ロータリー、又はドライスクロールポンプ)
・基板回転、上下昇降ステージ
・Max500℃基板加熱ヒーター
・水晶振動子膜厚センサー
・7”タッチパネルHMI操作(’IntelliLink’ WindowsPCリモート監視ソフト付属)
【仕様】
◉ 対応基板:〜Φ4inch
◉ スパッタリング:2"カソード x 最大3源
◉ 真空蒸着:抵抗加熱蒸着(最大2)、有機材料蒸着(最大4)
◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール
◉ APC自動圧力コントロール
◉ MFC搭載高精度プロセス制御
◉ Arガス1系統(標準) + N2, O2 最大3系統まで増設
◉ USB端子付 Windows PCに接続し、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギング
◉ 他、多彩なオプションを用意
◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール
◉ 対応基板:〜Φ4inch
◉ スパッタリング:2"カソード x 最大3源
◉ 真空蒸着:抵抗加熱蒸着(最大2)、有機材料蒸着(最大4)
◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール
◉ APC自動圧力コントロール
◉ MFC搭載高精度プロセス制御
◉ Arガス1系統(標準) + N2, O2 最大3系統まで増設
◉ USB端子付 Windows PCに接続し、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギング
◉ 他、多彩なオプションを用意
◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール
価格情報 | 詳細は当社までお問い合わせください。 |
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納期 |
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型番・ブランド名 | nanoPVD-ST15A |
用途/実績例 |
各種電子デバイス薄膜実験 金属薄膜、絶縁膜、化合物薄膜、他多数アプリケーションに対応 |
関連ダウンロード
スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】
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