UV-LED光源!半導体製造用自動露光装置|マスクアライナー光源を水銀ランプからLEDへ置き換えた露光装置です。 自動平行調整、完全非接触ギャップ管理、オートアライメント機能搭載です。 最終更新日: 2023-04-04 17:24:46.0 お問い合わせ/資料請求PDFダウンロード
段取り替えなし!インチ兼用自動リフトオフ装置【複数サイズのウエハを段取り替えなしで処理!】複数サイズ兼用装置はダウンタイムが少なく、生産性が高いリフトオフ装置を実現! 最終更新日: 2023-04-04 17:24:46.0 お問い合わせ/資料請求PDFダウンロード
枚葉式でDIP!?膨潤・高圧ジェット併用リフトオフ装置【枚葉式でDIP並みの膨潤】リサイクル式循環ヒーターにより、高温・高剥離力・低消費薬液での膨潤・高圧ジェットリフトオフを実現! 最終更新日: 2023-04-04 17:24:46.0 お問い合わせ/資料請求PDFダウンロード
高圧ジェットで高速レジスト剥離!半導体製造用リフトオフ装置【超高圧ジェットでメタル&レジスト除去】ASAP専用ノズルで、枚葉による高速処理・高剥離力・低消費薬液でのリフトオフを実現! 最終更新日: 2023-04-04 17:24:46.0 お問い合わせ/資料請求PDFダウンロード
短時間剥離!手動リフトオフ装置(マニュアル機)Lift-off短時間剥離!当社独自の特殊ノズルによる高圧ジェットで、枚葉による高速処理・高剥離力・低消費薬液でのリフトオフを実現しました! 最終更新日: 2023-04-04 17:24:46.0 お問い合わせ/資料請求PDFダウンロード
半自動リフトオフ装置(セミオートリフトオフ機)Lift-off自動機よりも安く、マニュアル装置より使いやすいセミオートタイプのリフトオフ装置です。 最終更新日: 2023-04-04 17:24:46.0 お問い合わせ/資料請求PDFダウンロード
ブラシ洗浄からの置き換え!枚葉式ウエハ洗浄装置(スクラバー)実績多数の高圧ジェットを採用したスクラバー。ソフトスプレーと組み合わせて、枚葉による高速処理・高洗浄力・低消費薬液が可能。 最終更新日: 2023-04-04 17:24:46.0 お問い合わせ/資料請求
半自動両面同時露光装置(セミオートダブルマスクアライナー)ベルト搬送方式によるウエハ表面、裏面を同時に露光可能な装置です。 fast露光モード、アライメント露光モードを設定可能。 最終更新日: 2023-04-04 17:24:46.0 お問い合わせ/資料請求PDFダウンロード
自動塗布・露光・現像一貫プロセス装置(フルオートリソグラフィ)レジスト塗布~露光~現像処理を一気通貫。自動で処理可能な装置です。フォトリソ工程装置の総合メーカーだから実現可能な特殊装置です。 最終更新日: 2023-04-04 17:24:46.0 お問い合わせ/資料請求PDFダウンロード
2サイズ兼用自動レジストコーター・デベロッパー(塗布・現像)段取り替え不要、2サイズのウエハ兼用装置です。 低粘度~高粘度レジスト対応!どのウェハサイズの装置も作製可能です! 最終更新日: 2023-04-04 17:24:46.0 お問い合わせ/資料請求PDFダウンロード
2サイズインチ兼用自動等倍露光装置(オートマスクアライナー)サイズ切替が容易なウエハ2サイズ兼用オートマスクアライナー。簡単設定、自動平行調整、完全非接触ギャップ管理、オートアライメント。 最終更新日: 2023-04-04 17:24:46.0 お問い合わせ/資料請求PDFダウンロード
角基板対応自動レジスト塗布・現像装置(コーター・デベロッパー)低粘度~高粘度レジスト対応!どのウェハサイズの装置も作製可能です! 最終更新日: 2023-04-04 17:24:46.0 お問い合わせ/資料請求PDFダウンロード
手動等倍露光装置(マニュアルマスクアライナー)簡単設定、自動平行調整、完全非接触ギャップ管理。搬送系が無い低価格手動マスクアライナー。 最終更新日: 2023-04-04 17:24:46.0 お問い合わせ/資料請求PDFダウンロード
自動フォトレジスト塗布・現像装置(コーター・デベロッパー)低粘度~高粘度レジスト対応!小口径~大口径まで、どのウェハサイズの装置も作製可能です! 最終更新日: 2021-04-16 13:07:43.0 お問い合わせ/資料請求PDFダウンロード