UV-LED光源！半導体製造用自動露光装置|マスクアライナー
光源を水銀ランプからLEDへ置き換えた露光装置です。 自動平行調整、完全非接触ギャップ管理、オートアライメント機能搭載です。
最終更新日：
2023-04-04 17:24:46.0
段取り替えなし！インチ兼用自動リフトオフ装置
【複数サイズのウエハを段取り替えなしで処理！】複数サイズ兼用装置はダウンタイムが少なく、生産性が高いリフトオフ装置を実現！
最終更新日：
2023-04-04 17:24:46.0
枚葉式でDIP！？膨潤・高圧ジェット併用リフトオフ装置
【枚葉式でDIP並みの膨潤】リサイクル式循環ヒーターにより、高温・高剥離力・低消費薬液での膨潤・高圧ジェットリフトオフを実現！
最終更新日：
2023-04-04 17:24:46.0
高圧ジェットで高速レジスト剥離！半導体製造用リフトオフ装置
【超高圧ジェットでメタル＆レジスト除去】ASAP専用ノズルで、枚葉による高速処理・高剥離力・低消費薬液でのリフトオフを実現！
最終更新日：
2023-04-04 17:24:46.0
短時間剥離！手動リフトオフ装置（マニュアル機）Lift-off
短時間剥離！当社独自の特殊ノズルによる高圧ジェットで、枚葉による高速処理・高剥離力・低消費薬液でのリフトオフを実現しました！
最終更新日：
2023-04-04 17:24:46.0
半自動リフトオフ装置（セミオートリフトオフ機）Lift-off
自動機よりも安く、マニュアル装置より使いやすいセミオートタイプのリフトオフ装置です。
最終更新日：
2023-04-04 17:24:46.0
ブラシ洗浄からの置き換え！枚葉式ウエハ洗浄装置（スクラバー）
実績多数の高圧ジェットを採用したスクラバー。ソフトスプレーと組み合わせて、枚葉による高速処理・高洗浄力・低消費薬液が可能。
最終更新日：
2023-04-04 17:24:46.0
半自動両面同時露光装置（セミオートダブルマスクアライナー）
ベルト搬送方式によるウエハ表面、裏面を同時に露光可能な装置です。 fast露光モード、アライメント露光モードを設定可能。
最終更新日：
2023-04-04 17:24:46.0
自動塗布・露光・現像一貫プロセス装置（フルオートリソグラフィ）
レジスト塗布～露光～現像処理を一気通貫。自動で処理可能な装置です。フォトリソ工程装置の総合メーカーだから実現可能な特殊装置です。
最終更新日：
2023-04-04 17:24:46.0
2サイズ兼用自動レジストコーター・デベロッパー（塗布・現像）
段取り替え不要、2サイズのウエハ兼用装置です。 低粘度～高粘度レジスト対応！どのウェハサイズの装置も作製可能です！
最終更新日：
2023-04-04 17:24:46.0
2サイズインチ兼用自動等倍露光装置（オートマスクアライナー）
サイズ切替が容易なウエハ2サイズ兼用オートマスクアライナー。簡単設定、自動平行調整、完全非接触ギャップ管理、オートアライメント。
最終更新日：
2023-04-04 17:24:46.0
自動フォトレジスト塗布・現像装置（コーター・デベロッパー）
低粘度～高粘度レジスト対応！小口径～大口径まで、どのウェハサイズの装置も作製可能です！
最終更新日：
2021-04-16 13:07:43.0
自動等倍露光装置（オートマスクアライナー）Maskaligner
簡単設定、自動平行調整、完全非接触ギャップ管理。オートアライメント機能搭載のオートマスクアライナ―。オーダーメイドも可能！
最終更新日：
2020-11-24 11:56:42.0
反りウェハも搬送！ベルト搬送式自動レジスト塗布装置（コーター）
ベルト搬送タイプのトラックシステムスピンコーターです。高スループットでありながら、どんな反りウェハでも搬送可能です！
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2023-04-04 17:24:46.0
2流体スプレー方式自動フォトレジスト現像装置（デベロッパー）
高い圧力から霧状の柔らかい圧力まで自由自在！2流体スプレーレジスト現像装置。厚膜などの現像時間を短くするのに有効です。
最終更新日：
2023-04-04 17:24:46.0
1流体スプレー方式自動フォトレジスト現像装置（デベロッパー）
厚膜現像や処理時間短縮に効果を発揮する1流体現像装置です。スプレー形状（円形、扇等）、圧力、流量などを自由に選択できます。
最終更新日：
2023-04-04 17:24:46.0
逆テーパー角を一定に！PEB対応レジスト現像装置（デベロッパー）
逆テーパー角度を一定に！ネガレジストやイメージリバーサル用のレジストに必要な露光後ベーク（PEB）対応自動レジスト現像装置です。
最終更新日：
2023-04-04 17:24:46.0
コンパクト！手動フォトレジスト現像装置（マニュアルデベロッパー）
少量多品種生産、開発用途向けのコンパクトレジスト現像装置です。枚葉式のため、DIPと違い品質を安定させることができます。
最終更新日：
2023-04-04 17:24:46.0
半自動フォトレジスト現像装置（セミオートデベロッパー）
自動機を購入するほど生産量が多くないが、プロセスの再現性を求めるお客様向けのセミオートデベロッパーです。
最終更新日：
2023-04-04 17:24:46.0
自動レジスト現像装置（枚葉式） デベロッパー Developer
枚葉式のためプロセスの再現性が高く、薬液使用量も少なく済みます。品質向上・プロセス安定ニーズにお応えするレジスト現像装置です！
最終更新日：
2023-04-04 17:24:46.0
コンパクト！装置幅300mm自動レジスト塗布装置（コーター）
装置「幅」が300mm！ウェハサイズではなくて装置の幅が300mmの装置作製実績があります（2インチウェハ使用）
最終更新日：
2023-04-04 17:24:46.0
大型角基板用（～430mm）回転カップ式自動レジスト塗布コーター
430mm角までの大型基板を隅まで均一良く塗ることができます！正方形、長方形、不定形など用途に合わせて塗布できます。
最終更新日：
2023-04-04 17:24:46.0
段取り替えなし！複数ウエハサイズ兼用自動レジスト塗布装置コーター
現状のウエハサイズと将来的に使用したいウエハサイズを兼用した装置を作製できます（例、2・4インチ、6・8インチなど）
最終更新日：
2024-03-21 10:41:05.0
