株式会社エナテックのCZウェーハ 成膜加工は、膜種により2インチから450mmウェーハへの成膜が可能です。
酸化膜系:熱酸化、RTO、LP-TEOS、HDP-USG、P-TEOS、PSG、BPSG、BSG、LP-CVD、PE-CVD
窒化膜系: HCD-SiN、DCS-SiN、P-SiN、LP-SiN 、LP-CVD、PE-CVD
金属膜系: TaN、Ta、Cu、Al、AlN、Al-Si、Al-Si-Cu、Ni、W、W-Si-Cu
その他 Poly-Si、a-Si、SiC、Low-k(SiOC系、有機化学系)、グラフェン膜、グラファイト
*SiO2,SiN,SiONなど膜種により1枚からでも対応が可能です。
*Suputter成膜にてTi,Cu,Cr,Niなど対応可能です。
*レジスト塗布/露光/エッチングは4インチ~12インチまで対応可能です。
*テストパターン付ウェーハ(6インチから12インチ)も仕様により一貫で対応致します。
*レチクルご支給による、露光/エッチングも承ります。(8インチと12インチ)
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基本情報
【特徴】
○膜種により2インチから450mmウェーハへの成膜が可能
○テストパターン付ウェーハ(6インチから12インチ)に対応
○レチクルご支給による、露光/エッチングも対応(8インチと12インチ)
○レジスト塗布/露光/エッチングは4インチ~12インチまで対応可能
○バックグラインダー:直径5インチ~12インチ
○ダイシング:直径5インチ~12インチ
【12インチ 対応可能膜種】
○酸化膜系:熱酸化、RTO、LP-TEOS、HDP-USG、P-TEOS、PSG、BPSG
○窒化膜系:DCS-SiN、P-SiN、LP-SiN
○金属膜系:TaN、Ta、Cu、Al、Al-Si、Al-SiーCu、Ni、W、W-Si-Cu
○その他:Poly-Si、A-Si、SiC、Low-k(SiOC系、有機化学系)
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