株式会社アイテス

パワーデバイス故障箇所・Slice&View 三次元再構築

最終更新日: 2024-11-07 16:38:29.0

上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。

関連情報

FIB-SEM Helios 5 UC 導入のお知らせ
FIB-SEM Helios 5 UC 導入のお知らせ 製品画像
【FIB-SEM複合装置概要】
■垂直方向にSEMカラム、斜め方向にFIBカラムを搭載
■FIB加工中の様子をSEMでリアルタイムに観察が可能
■加工位置精度の向上
■大気非暴露で観察、分析可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
パワー半導体の解析サービス
パワー半導体の解析サービス 製品画像
【故障箇所特定から拡散層評価や結晶構造などの物理解析まで対応】
■裏面発光/ OBIRCH解析による故障箇所特定
■故障箇所への高精度位置特定、FIB加工
■不良箇所のFIB/LV-SEM観察、EBIC解析による拡散層形状評価
■TEM観察による結晶構造観察、元素分析

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
クロスビームFIBによる断面観察
クロスビームFIBによる断面観察 製品画像
半導体デバイス、MEMS、TFTトランジスタなど
ナノスケールで製造されるエレクトロニクス製品の構造解析を
クロスビームFIBによる断面観察で行います。

1)FIB加工をリアルタイムで観察できるため目的の箇所を確実に捉えます。
2)2つの二次電子検出器(In-Lens/チャンバーSE)により試料から様々な情報が得られます。
3)加工用FIBと観察用低加速SEMを1つのチャンバーに集約し大気に曝すことなく観察。
4)拡散層:PN界面の可視化が可能。N+/N-及びP+/P-の濃度差は検出不可。
パワーデバイスの故障解析
パワーデバイスの故障解析 製品画像
・パッケージ状態・開封済みチップ・チップ単体・Wafer状態の裏面研磨
 Siチップサイズ:200um~15mm

・IR-OBIRCH解析: ~100mA/10V ~100uA/25V まで対応
         感度:数十pA
         低倍最大視野:6.5mm角

・エミッション解析: ~2kV まで対応
          感度:数nA
          低倍最大視野:6.5mm角

・特定位置精度: ±0.3um、試料厚1.5um~0.1um

・機械研磨SEM観察: 大きな破壊箇所・異物・広範囲の観察

・拡散層観察: TEM試料加工前に不良箇所近傍にて観察可能
       構造により前処理が必要な場合あり

・FIB-SEM観察: クラック・形状異常・拡散層観察(~×50k)

・断面TEM観察: ゲート酸化膜の破壊・転位(~400k)
 
パワーデバイスのトータルソリューションサービス
パワーデバイスのトータルソリューションサービス 製品画像
■パワーデバイスの信頼性試験
・パワーサイクル試験
 定電流600A max.(Vce=10V)
 同時に熱抵抗測定も可能
・180℃対応 液槽熱衝撃試験
 温度範囲 -65℃~150℃、-40℃~180℃
 液媒体 Galden D02TS/D03
 試料かご(最大) W320xH240xD320(mm)
・パワーデバイスアナライザによる特性評価
 最大電圧 3000V、最大電流 20A
 小型の部品からパワーデバイスまで幅広く対応
・絶縁性評価イオンマイグレーション試験
 高温高湿環境下で、実使用条件より高い電圧を印加して加速試験を実施
 パワーデバイスの保証寿命範囲内でマイグレーションが発生しないことを確認する試験
・高温逆バイアス/ゲートバイアス試験
 高温高湿環境下の絶縁抵抗値の連続モニター
 チャネル数 120チャネル
■パワーデバイスの分析・解析
・パワーチップの故障解析
・はんだ接合部の解析
・極低加速特殊SEMによるAlワイヤーのグレイン観察
・半導体・パッケージ剥離部の非破壊観察

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