一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

【分析事例】極薄SiON膜の組成・膜厚評価

最終更新日: 2016-02-05 11:53:51.0
光電子の平均自由行程を用いた膜厚の見積もり

シリコンウエハ上の自然酸化膜・シリコン酸窒化薄膜など、厚さ数nm以下の極薄膜について、サンプル最表面のSi2pスペクトルを測定します。得られたスペクトルの波形解析を行うことにより、各結合状態の存在割合を求め、この結果と光電子の平均自由行程から膜厚を見積もります(式1)。

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用途/実績例 LSI・メモリ・酸化物半導体・パワーデバイス・光デバイス・電子部品の分析です

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