-
-
◉ 基板上下機構、回転、RF/DCバイアス、傾斜
◉ 対応サイズ：φ2inch〜φ4inch
◉ 使用雰囲気：O2, N2, Ar, Vac他
◉ 最高使用温度：
- Max 1800℃（Gr, CCC, CCC/PG）
- Max 1600℃（Graphite+SiCコーティング, PBNコーティング）
- Max 850℃（NiCr）
- Max 1000℃（Kanthal）
-
- 1
- 2
-
- 表示件数
- 30件
-
-
- 薄膜実験装置_「PRODUCTS GUIDE 2022」
- 半導体・電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用各種実験装置、薄膜実験装置を紹介。
- 最終更新日：2024-10-12 16:19:57.0
-
-
-
- 【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃
- 超高温基板加熱ステージに、基板昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全てが1台で可能! 'All-In-One'コンポーネント
- 最終更新日：2024-10-12 16:09:45.0
-
-
-
- BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃
- PVD、CVDなどの薄膜実験用基板加熱ヒーター均一性・昇温特性・制御性に優れたヒーターです。RF/DCバイアス仕様も可能。
- 最終更新日：2024-10-12 16:10:10.0
-
-
-
- 【SH 高温基板ヒーター】PVD, CVD用 Max1100℃
- CVD, PVD（蒸着, スパッタ等）均熱性・再現性に優れた高真空 超高温 ウエハー・小片チップ加熱用 プレートヒーター
- 最終更新日：2024-10-12 16:13:14.0
-
-
-
- ◾️真空用【CH 超高温円筒状ヒーター】Max1800℃ ◾️
- 真空用 超高温円筒状ヒーターユニット 最高温度1800℃（グラファイト、C/Cコンポジット）
- 最終更新日：2024-10-12 16:12:42.0
-
-
-
- ◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置
- Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar）
- 最終更新日：2024-10-12 16:01:35.0
-
-
-
- 【Mini-BENCH 】超高温卓上型実験炉 Max2000℃
- 卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
- 最終更新日：2024-10-12 15:40:07.0
-
-
-
- TCF-C500 超高温小型実験炉Max2900℃
- コンパクト・省スペース・省エネルギー！ 高性能 R&D用超高温実験炉
- 最終更新日：2024-10-12 16:13:58.0
-
-
-
- MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉2000℃
- Φ6〜8inch超高温ウエハーアニール装置 研究開発から小規模生産まで多目的に幅広く対応するハイパフォーマンス機
- 最終更新日：2024-10-12 16:15:35.0
-
-
-
- ◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆
- ローコスト 必要最小構成（手動制御）管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用可能
- 最終更新日：2024-10-12 16:14:19.0
-
-
-
- Products Guide_【超高温実験炉 製品ガイド」
- テルモセラ・ジャパン研究開発用実験炉を紹介。燃料電池・セラミックス等の材料開発・黒鉛・等の超高温実験に活用頂けます。
- 最終更新日：2024-10-12 15:39:06.0
-
-
-
- 【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置
- 【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能CVD装置
- 最終更新日：2024-10-12 15:40:57.0
-
-
-
- 【nanoCVD-8G】グラフェン合成装置
- ◉ 短時間 1バッチわずか30分で容易にグラフェン合成実験が可能 ◉ 高精度温度・圧力制御 ◉ 洗練されたソフトウエア
- 最終更新日：2024-10-12 16:20:21.0
-
-
-
- 【マグネトロンスパッタリングカソード】
- 不純物なく金属・絶縁物等を堆積するRF, DC, パルスDC対応高効率マグネトロンスパッタカソード。メンテナンス性にも優れます。
- 最終更新日：2024-10-12 15:51:20.0
-
-
-
- 【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置
- 高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式スパッタリング装置
- 最終更新日：2024-10-12 15:47:56.0
-
-
-
- ◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置
- 限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新の真空蒸着技術の全てを収納しました。
- 最終更新日：2024-10-12 15:59:14.0
-
-
-
- □■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□
- 小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成
- 最終更新日：2024-10-12 16:05:18.0
-
-
-
- □■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□
- 蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み立てることができるセミカスタムメイド薄膜実験装置
- 最終更新日：2024-10-12 16:07:37.0
-
-
-
- 【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置
- 小型・省スペース! 有機薄膜開発に好適 蒸着・スパッタ・アニール等全ての作業をグローブボックス内でシームレスに行う事ができます。
- 最終更新日：2024-10-12 15:45:17.0
-
-
-
- 【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置
- モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。
- 最終更新日：2024-10-12 16:19:07.0
-
-
-
- ソフトエッチング装置【nanoETCH】
- ＜30W ローパワー・エッチング制御精度10mW ダメージレス・繊細なエッチング処理を実現
- 最終更新日：2024-10-12 16:20:52.0
-
-
-
- □■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□
- 蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
- 最終更新日：2024-10-12 15:59:58.0
-
-
-
- □■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□
- グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
- 最終更新日：2024-10-12 16:02:09.0
-
-
-
- ◆Mini-BENCH-prismセミオート式 超高温実験炉◆
- 最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 最終更新日：2024-10-12 16:15:11.0
-
-
-
- スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】
- 真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な「複合型」薄膜実験装置 nanoPVD-ST15A
- 最終更新日：2024-10-12 16:19:35.0
-
-
-
- 真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』
- 卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
- 最終更新日：2024-10-12 15:40:36.0
-
-
-
- 真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
- 最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 最終更新日：2024-10-12 16:14:45.0
-
-
-
- アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』
- Φ6〜8inch超高温ウエハーアニール装置 研究開発から小規模生産まで多目的に幅広く対応するハイパフォーマンス機
- 最終更新日：2024-10-12 16:18:41.0
-
-
-
- アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』
- Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar）
- 最終更新日：2024-10-12 15:51:43.0
-
-
-
- スパッタリング装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』
- モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。
- 最終更新日：2024-10-12 15:57:47.0
-
-
- 1
- 2
-
- 表示件数
- 30件