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【Mini-BENCH超高温小型卓上実験炉Max2200℃】
【MiniLab-WCF超高温ウエハーアニール炉Max2000℃】
【TCF-C500超高温カーボン実験炉Max2900℃】など、あらゆる超高温焼成用途に多彩なラインナップからベストなソリューションをご提案致します。又、特注仕様にも応じますのでお気軽に当社までご相談下さい。
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- □■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□
- 小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成
- 最終更新日：2024-10-12 16:05:18.0
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- □■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□
- 蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み立てることができるセミカスタムメイド薄膜実験装置
- 最終更新日：2024-10-12 16:07:37.0
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- □■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□
- 蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
- 最終更新日：2024-10-12 15:59:58.0
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- □■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□
- グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
- 最終更新日：2024-10-12 16:02:09.0
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- 【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置
- 小型・省スペース! 有機薄膜開発に好適 蒸着・スパッタ・アニール等全ての作業をグローブボックス内でシームレスに行う事ができます。
- 最終更新日：2024-10-12 15:45:17.0
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- 【マグネトロンスパッタリングカソード】
- 不純物なく金属・絶縁物等を堆積するRF, DC, パルスDC対応高効率マグネトロンスパッタカソード。メンテナンス性にも優れます。
- 最終更新日：2024-10-12 15:51:20.0
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- BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃
- PVD、CVDなどの薄膜実験用基板加熱ヒーター均一性・昇温特性・制御性に優れたヒーターです。RF/DCバイアス仕様も可能。
- 最終更新日：2024-10-12 16:10:10.0
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- 【SH 高温基板ヒーター】PVD, CVD用 Max1100℃
- CVD, PVD（蒸着, スパッタ等）均熱性・再現性に優れた高真空 超高温 ウエハー・小片チップ加熱用 プレートヒーター
- 最終更新日：2024-10-12 16:13:14.0
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- 【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃
- 超高温基板加熱ステージに、基板昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全てが1台で可能! 'All-In-One'コンポーネント
- 最終更新日：2024-10-12 16:09:45.0
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- ◾️真空用【CH 超高温円筒状ヒーター】Max1800℃ ◾️
- 真空用 超高温円筒状ヒーターユニット 最高温度1800℃（グラファイト、C/Cコンポジット）
- 最終更新日：2024-10-12 16:12:42.0
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- 真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』
- 卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
- 最終更新日：2024-10-12 15:40:36.0
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- 真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
- 最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 最終更新日：2024-10-12 16:14:45.0
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- アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』
- Φ6〜8inch超高温ウエハーアニール装置 研究開発から小規模生産まで多目的に幅広く対応するハイパフォーマンス機
- 最終更新日：2024-10-12 16:18:41.0
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- アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』
- Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar）
- 最終更新日：2024-10-12 15:51:43.0
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- スパッタリング装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』
- モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。
- 最終更新日：2024-10-12 15:57:47.0
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