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【Mini-BENCH超高温小型卓上実験炉Max2200℃】
【MiniLab-WF超高温ウエハーアニール炉Max2000℃】
【TCF-C500超高温カーボン実験炉Max2900℃】など、あらゆる超高温焼成用途に多彩なラインナップからベストなソリューションをご提案致します。又、特注仕様にも応じますのでお気軽に当社までご相談下さい。
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- 【マグネトロンスパッタリングカソード】
- 不純物なく金属・絶縁物等を堆積するRF, DC, パルスDC対応高効率マグネトロンスパッタカソード。メンテナンス性にも優れます。
- 最終更新日:2023-09-15 14:39:56.0
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- 【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置
- 高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式スパッタリング装置
- 最終更新日:2023-09-15 14:16:58.0
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- ◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置
- 限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新の真空蒸着技術の全てを収納しました。
- 最終更新日:2023-09-15 14:31:02.0
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- BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃
- 【UHV対応 真空薄膜実験用 面状加熱ヒーター】 大学・研究機関のお客様に限定した安価で短納期なヒーター製品を用意致しました。
- 最終更新日:2023-08-26 17:00:35.0
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- 【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃
- CVD, PVD(蒸着, スパッタ, PLD, ALD等)均熱性・再現性に優れた高真空 超高温ウエハー加熱用ホットプレート
- 最終更新日:2023-10-15 20:38:59.0
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- 【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃
- 超高温基板加熱ステージに、基板昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全てが1台で可能! 'All-In-One'コンポーネント
- 最終更新日:2023-08-26 16:58:50.0
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- 【HTシリーズ基板加熱ヒーターMax1900℃】Φ1〜8inch
- プレート最高温度Max1900℃。HV, UHVほか過酷なプロセス環境に対応可能な真空薄膜・成膜装置用基板加熱ヒーター
- 最終更新日:2023-08-26 17:09:44.0
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- 【円筒状ヒーター】グラファイト, C/Cコンポジットヒーター
- 超高温 Max1800℃円筒状ヒーター
- 最終更新日:2023-08-26 16:52:17.0
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- □■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□
- 蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
- 最終更新日:2023-09-16 10:31:15.0
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- □■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□
- グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
- 最終更新日:2023-09-16 10:32:22.0
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- 真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』
- 卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
- 最終更新日:2023-08-27 23:55:12.0
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- 真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
- 最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース実験炉
- 最終更新日:2023-08-27 23:56:21.0
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- アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』
- SiC3, TiC3コーティングヒーター採用:様々なプロセス環境に対応 小規模生産も可能なマルチ雰囲気ウエハーアニール装置
- 最終更新日:2023-04-01 17:19:42.0
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- アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』
- Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板対応、 高真空アニール装置(<5 × 10-7 mbar)
- 最終更新日:2023-09-15 14:42:16.0
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- スパッタリング装置『MiniLab(ミニラボ)シリーズ』
- モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。
- 最終更新日:2023-09-20 12:12:00.0