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【Mini-BENCH超高温小型卓上実験炉Max2200℃】
【MiniLab-WCF超高温ウエハーアニール炉Max2000℃】
【TCF-C500超高温カーボン実験炉Max2900℃】など、あらゆる超高温焼成用途に多彩なラインナップからベストなソリューションをご提案致します。又、特注仕様にも応じますのでお気軽に当社までご相談下さい。
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- スパッタリング装置『MiniLab-060』
- 蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み立てることができるセミカスタムメイド薄膜実験装置
- 最終更新日：2024-10-12 16:08:07.0
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- 真空蒸着装置『MiniLab-080』
- 蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
- 最終更新日：2024-10-12 15:42:30.0
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- スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』
- 高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式スパッタリング装置
- 最終更新日：2024-10-12 15:48:46.0
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- 真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）
- グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
- 最終更新日：2024-10-12 15:49:07.0
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- 真空蒸着装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』
- モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。
- 最終更新日：2024-10-12 16:02:46.0
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- 真空蒸着装置『nanoPVD-T15A』
- 限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新の真空蒸着技術の全てを収納しました。
- 最終更新日：2024-10-12 15:49:37.0
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- スパッタリング装置『MiniLab-026』
- 小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成
- 最終更新日：2024-10-12 16:03:43.0
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- 真空蒸着装置『MiniLab-026』
- 小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成
- 最終更新日：2024-10-12 16:06:07.0
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