◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT(SWNT)合成実験が可能 ◉ 1バッチわずか30分!
◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール
◉ 急速昇温:RT→1100℃/約3分間
◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機
◆特徴◆
・簡単操作! 5inchタッチパネルによる操作・レシピ管理
・最大30レシピ,30stepのプログラム作成可能
・専用ソフトウエア標準装備,CSVファイルで出力PCでデータロギング
・USBケーブル接続,PC側でのレシピ作成→装置へアップロード可能
・最大試料サイズ:40 x 40mm:銅(ニッケル)箔, SiO2/Si, Al2O3/Si基板,他
◆Model. nanoCVD-8G(グラフェン用)◆
・グラフェン生成用,真空プロセス制御
・ロータリーポンプ標準付属(オプション:TMP, Diffusion or Dry Pump)
・ガス供給3系統(標準)
・試料加熱ステージMax1100℃
・Kタイプ熱電対
◆Model. nanoCVD-8N(CNT用)◆
・CNT生成用,常圧プロセス制御
他同上
※ H2, Ar, N2, Ethanol, CH4等の原料、及び原料供給設備は付属しません。
・簡単操作! 5inchタッチパネルによる操作・レシピ管理
・最大30レシピ,30stepのプログラム作成可能
・専用ソフトウエア標準装備,CSVファイルで出力PCでデータロギング
・USBケーブル接続,PC側でのレシピ作成→装置へアップロード可能
・最大試料サイズ:40 x 40mm:銅(ニッケル)箔, SiO2/Si, Al2O3/Si基板,他
◆Model. nanoCVD-8G(グラフェン用)◆
・グラフェン生成用,真空プロセス制御
・ロータリーポンプ標準付属(オプション:TMP, Diffusion or Dry Pump)
・ガス供給3系統(標準)
・試料加熱ステージMax1100℃
・Kタイプ熱電対
◆Model. nanoCVD-8N(CNT用)◆
・CNT生成用,常圧プロセス制御
他同上
※ H2, Ar, N2, Ethanol, CH4等の原料、及び原料供給設備は付属しません。
価格情報 |
- 詳細当社までお問い合わせ下さい。 |
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納期 |
お問い合わせください
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型番・ブランド名 | nanoCVD-8G/8N |
用途/実績例 |
◆主な応用アプリケーション◆ ・大学教育機関 ・各研究機関での基礎・応用研究 ・材料開発 ・その他先端デバイス開発などに応用 |
ラインアップ
型番 | 概要 |
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nanoCVD-8G | Graphene用 真空プロセス制御 ロータリーポンプ標準付属 |
nanoCVD-8N | SWNT用 常圧プロセス制御 |
詳細情報
nanoCVD-8G sample stage
nanoCVD-8G試料加熱ステージ
nanoCVD HMI
nanoCVD 5inchタッチパネルスクリーン
ラマン解析データ
nanoVD-8G グラフェン ラマン解析データ
nanoCVD-8N 'CNT forest'
nanoCVD-8Nにて作成した「単層カーボンナノチューブの森(SWNT forests)」事例
関連ダウンロード
【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置
上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
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テルモセラ・ジャパン株式会社