Φ6〜8inch超高温ウエハーアニール装置 研究開発から小規模生産まで多目的に幅広く対応するハイパフォーマンス機
◾️ Max2000℃
◾️ 有効加熱範囲：Φ6〜Φ8inch 枚葉式、又はバッチ式（多段5枚カセット）
◾️ ヒーター制御：1ゾーン、又は2ゾーン（カスケード制御）
◾️ ヒーター材質：
・C/Cコンポジット：Φ6〜Φ8inch
・PGコーティング 高純度グラファイト：Φ6〜Φ8inch
◾️ 使用雰囲気：
・真空（1x10-2Pa）、不活性ガス（Ar, N2）
◾️ PLCセミオート運転
・真空/パージサイクル、ベントの自動シーケンス制御
・フルオート自動運転（オプション）
・タッチパネル操作、操作が分散せず一元管理が可能です。
◾️ プロセス圧力制御
・APCコントロール（MFC流量、又は自動開度調整バルブ PIDループ制御）
・MFC最大3系統流量自動制御、又はフロートメーター/ニードルバルブの手動調整
◾️ PLOT画面グラフ表示、CSVデータ出力
◆主仕様◆
・断熱材：グラファイトフェルト、タングステン、モリブデン、アルミナ、ジルコニアなど（*炉内設計により異なります）
・チャンバー開閉：トップローディング、リニアドライブ駆動（又はダンパー付手動開閉）
・到達真空度：1x10-2Pascal（空炉の場合）
・真空ポンプ：ドライスクロールポンプ
・真空計：ワイドレンジ真空計 大気圧〜10-9 mbar
・熱電対：Cタイプ熱電対（設計温度条件によってはKタイプを採用）
・インターロック：チャンバー過昇温、ヒーター過昇温、冷却水断水、チャンバー開閉、真空度
・用力：200V, 50A（*仕様により異なります）3相
・冷却水:8L/min,0.4Mpa
・寸法（筐体部）：1240(W) x 535(D) x 1100(H)mm
◆オプション◆
・るつぼ内温度測定用熱電対追加
・高真空ポンプ（ターボ分子ポンプ）
・フロントビューポート
・フルオートコントロール
・基板回転ステージ
・通信機能（温調計機能使用）、又はSECS/GEM通信
| 価格情報 |
- 詳細当社までお問い合わせ下さい。 |
|---|---|
| 納期 |
お問い合わせください
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| 型番・ブランド名 | MiniLab-WCF |
| 用途／実績例 |
◆主な応用アプリケーション◆ ・ワイドギャップ半導体 結晶成長およびデバイス作製プロセス中での高温アニール ・窒化物半導体結晶 エピタキシャル成長プロセス中での高温アニール ・新素材開発 ・その他各種先端材料基礎開発に応用 |
詳細情報
CCコンポジットヒーターエレメント
CCコンポジットヒーターエレメントを標準採用
・Φ2inch、Φ4inch、Φ6inch、Φ8inchまで標準対応
・Single Zone、もしくはDual Zone制御式（*2inchはSingle Zoneのみ）
ウエハーホルダー 8inch用参考例（2inchウエハーx7枚設置可能）
ご要望によりご指定形状・材質のウエハーホルダーを作成いたします。
PIDデジタル温度調節計
標準採用機種
・Eurotherm社 nanodaq series
トップローディング式チャンバー
関連ダウンロード
アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』
上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
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テルモセラ・ジャパン株式会社
