高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式スパッタリング装置
高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置
● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！）
● スパッタ源 x 3：連続多層膜膜制御, 同時成膜
● 膜均一性±3%
● 多彩なオプション：上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他
◉ nanoPVDは、最大スパッタ源3源+3系統（MFC制御）、RF/DC PSUの増設（最大2電源まで）連続多層膜・2源同時成膜（RF/DC、又はDC/DCのみ）、など多目的にお使い頂くことができます。
・絶縁膜
・導電性膜
・化合物、他
【主な特徴】
◉ 対応基板：2"（1〜3源）、もしくは4"（1源）
◉ 2"カソード x 最大3源
◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール
◉ MFC搭載高精度プロセス制御
◉ Arガス1系統（標準） + N2, O2 最大3系統まで増設
◉ USB端子付 Windows PCに接続し、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギング。
◉ 他、多彩なオプションを用意
◉ ユーザの登録したフィルムレシピ、プロセス制御（真空引/ベント、成膜時間、出力/時間、MFC流量圧力自動制御、カソード切替、シャッター開閉、加熱・昇降回転調整など）を全自動運転（手動も可能）〜Windows PCでデータロギングができます。
【主な仕様】
・RF/DCマグネトロン方式
・2inchマグネトロンカソードx3源（標準1源）
・RF電源：150W 自動マッチング
・DC電源：850W
・対応基板サイズ2inch、4inch
・基板回転・上下昇降・加熱（500℃）オプション
・プロセスガス制御：MFC x 1（Ar標準、最大3系統増設：N2, O2）
・APC自動制御（キャパシタンスマノメータ オプション）
・水晶振動子膜厚モニタ
・シャッター
・寸法：804(W) x 570(D) x 600(H)mm
・重量：約70kg
・電源：200VAC 50.60Hz 15A
・チャンバーサイズ：Φ225（内径）x 250mm
・真空系：TMP + RP（ドライポンプ オプション）
・ペルチェ冷却機構
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 |
お問い合わせください
※ 仕様により納期変動します、当社までお問い合わせ下さい。 |
| 型番・ブランド名 | S10A |
| 用途／実績例 |
各種電子デバイス薄膜実験 金属薄膜、絶縁膜、化合物薄膜、他多数アプリケーションに対応 |
ラインアップ
| 型番 | 概要 |
|---|---|
| nanoPVD-S10A | |
| nanoPVD-S10A-WA | Φ6inch、Φ8inch基板対応ステージ搭載 |
詳細情報
nanoPVD system front
チャンバー: Φ259(H) x Φ225(i.d)mm
フロントビューポート
7inchタッチスクリーン
nanoPVD system back
ターボ分子ポンプ + ロータリーポンプ
Windows PC USB接続 専用ソフトウエアにてデータロギング
nanoPVD front view port
フロントビューポート
2inch Magnetron Cathode
2inchマグネトロンカソード（DC/RF/PulseDC兼用） x 最大3源
関連ダウンロード
スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』
上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
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テルモセラ・ジャパン株式会社
