グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。
◉ 抵抗加熱蒸着源 x 最大4
◉ 有機蒸着源 x 最大4
◉ マグネトロンスパッタリングカソード x 4
◉ 電子ビーム蒸着
◉ ドライエッチング
◉ アニール
【主仕様】
・最大基板サイズ：Φ10inch
・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー
・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可）
・真空排気：真空/ベント自動制御
・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源）
・有機蒸着：最大4源（Model. LTEC-1cc/5cc)
・EB電子ビーム蒸着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）
・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４
・プロセス制御：手動/自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御
・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4
・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ
・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa
・その他オプション：基板回転/昇降, プラズマエッチング, ドライポンプ
・最大基板サイズ：Φ10inch
・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー
・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可）
・真空排気：真空/ベント自動制御
・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源）
・有機蒸着：最大4源（Model. LTEC-1cc/5cc)
・EB電子ビーム蒸着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）
・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４
・プロセス制御：手動/自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御
・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4
・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ
・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa
・その他オプション：基板回転/昇降, プラズマエッチング, ドライポンプ
| 価格情報 | 本装置はカスタマイズ品です、都度構成により変わりますのでお問合せ下さい。 |
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| 納期 |
お問い合わせください
※ 本装置はカスタマイズ品です、都度構成により変わりますのでお問合せ下さい。 |
| 型番・ブランド名 | MiniLab-080 |
| 用途／実績例 |
大学・企業研究室での各種基礎実験用途 ・光学薄膜 ・電極膜, 半導体膜, 配線膜, 絶縁膜 他 |
関連ダウンロード
真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）
上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
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