限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新の真空蒸着技術の全てを収納しました。
OLED, OPV, OTFT等の有機材料用・温度応答性/安定性に優れた高性能有機ソースLTE（最大4源）、交換・メンテナンスが容易に行える金属蒸着ソースTE（最大2源）を採用、手動運転モードから、自動連続多層膜、同時成膜の自動モードでの運転も可能です。
コンパクトサイズにも関わらず、基本性能・膜質・均一性・操作性の全てを犠牲にせず、スタンドアローン大型機と同様の性能を実現しました。
更に簡単タッチパネル操作でPLC全自動制御。
難しい操作手順を必要とせずどなたでも直感的に操作ができる分かりやすいHMI。
リモートソフトウエア「IntelliLink（インテリリンク）」付属：USBケーブルでWindows PCに接続し、装置運転状況モニター、ログ保存、オンライン/オフラインレシピ作成保存、故障解析などが可能です。
限られた開発現場・ラボスペースを最大限有効活用ができる省スペース設計・メンテナンス性にも優れたコンパクトサイズ真空蒸着装置です。
◉寸法：804(W) x 530(D) x 600(H)mm
◉重量：40kg〜70kg（装置構成による）
◉優れた基本性能
・到達真空度 5x10-5Pascal
・高性能ターボ分子ポンプ搭載
・〜Φ4inch基板
◉蒸着源
・金属蒸着源 TE x 最大2基
・有機蒸着源 LTE x 最大4基（抵抗加熱TEと混在の場合、2基まで）
◉7"タッチパネル
◉連続成膜
・成膜プログラム自動制御
・30種類のレシピ登録
・高精度ワイドレンジ真空ゲージ
◉豊富なオプション
・基板回転
・上下昇降 300mmストローク
・基板シャッター
・ドライポンプ（RP標準）
・USBでWindows PCに接続、ログの保存管理
◉重量：40kg〜70kg（装置構成による）
◉優れた基本性能
・到達真空度 5x10-5Pascal
・高性能ターボ分子ポンプ搭載
・〜Φ4inch基板
◉蒸着源
・金属蒸着源 TE x 最大2基
・有機蒸着源 LTE x 最大4基（抵抗加熱TEと混在の場合、2基まで）
◉7"タッチパネル
◉連続成膜
・成膜プログラム自動制御
・30種類のレシピ登録
・高精度ワイドレンジ真空ゲージ
◉豊富なオプション
・基板回転
・上下昇降 300mmストローク
・基板シャッター
・ドライポンプ（RP標準）
・USBでWindows PCに接続、ログの保存管理
| 価格情報 | 当社までお問い合わせ下さい。 |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 型番・ブランド名 | nanoPVD-T15A |
| 用途／実績例 |
・OLED, OPV, OTFT等の液晶 有機物薄膜開発 ・光学薄膜、装飾膜等の産業用途 ・電子基板、半導体基板等の薄膜開発 ・コーティング材料、薄膜材料の開発 |
関連ダウンロード
真空蒸着装置『nanoPVD-T15A』
上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
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