CVD, PVD（蒸着, スパッタ等）均熱性・再現性に優れた高真空 超高温 ウエハー・小片チップ加熱用 プレートヒーター
ヒータープレートにインコネルもしくはBNプレートを採用した、熱放射効率が良く、均熱性に優れた成膜装置・真空薄膜実験用高真空対応ホットプレートです。
【ラインナップ】
◎ SH-IN（インコネルプレート）：φ1.0〜φ6.1inch 真空・O2・活性ガス用
◎ SH-BN（BNプレート, Moカバー）：φ2.1〜φ6.1inch 真空・不活性ガス用
【特徴】
◎ 最高温度1100℃（SH-BN）, 850℃（SH-IN）
◎ 短時間昇温
◎ 面内温度分布 ±2%以内
◎ 制御精度・再現性±1℃
◎ 低価格
◎ 短納期（標準約2週間 *フランジ付き, 回転・上下機構, 取付ブラケット付きなどは除く）
◆ヒーター仕様◆
◎ 使用発熱体
・NiCr（SH-IN型）, W/BNコンポジット（SH-BN型）
◎ 最高使用温度
・850℃（SH-IN型）, 1100℃SH-BN型
◎ 対応基板サイズ
・1〜6inch（*1, 1.6inchはインコネルタイプのみ）
◎ 使用雰囲気
・SH-IN：真空（1x10-7Torr）, 不活性ガス, 大気, O2, NH3, SiH4, CH4他
・SH-BN：真空（1x10-7Torr）, 不活性ガス, H2, He, CH4, C（*O2不可）
◎ 基板固定用サンプルクリップ付属
◆オプション仕様◆
◎ 真空フランジ（JIS, ICF, ISO）
◎ 基板回転, 上下昇降機構
◎ ヒーターコントローラ Model. BWS-PS/HC-Mini
| 価格情報 | - |
|---|---|
| 納期 |
お問い合わせください
※ 仕様により納期が異なります、当社へお問い合わせ下さい。 |
| 型番・ブランド名 | SH-IN series, SH-BN series |
| 用途／実績例 | 半導体・電子部品基板基礎技術開発分野でのCVD, PVD（PLD, ALD, 蒸着, スパッタリング）などの薄膜実験、物性研究、材料分析などの研究開発用途に最適、又、生産用途装置での活用も可能です。 |
ラインアップ
| 型番 | 概要 |
|---|---|
| SH-IN-1.0inch | 加熱部Φ1.0inch Max 850℃ インコネルプレート 使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He, O2 |
| SH-IN-1.6inch | 加熱部Φ1.6inch Max 850℃ インコネルプレート 使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He, O2 |
| SH-IN-2.2inch | 加熱部Φ2.2inch Max 850℃ インコネルプレート 使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He, O2 |
| SH-IN-3.1inch | 加熱部Φ3.1inch Max 850℃ インコネルプレート 使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He, O2 |
| SH-IN-4.1inch | 加熱部Φ4.1inch Max 850℃ インコネルプレート 使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He, O2 |
| SH-IN-6.1inch | 加熱部Φ6.1inch Max 850℃ インコネルプレート 使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He, O2 |
| SH-BN-1.0inch | 加熱部Φ1.0inch Max 850℃ BNプレート（Moカバー付き） 使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He |
| SH-BN-1.6inch | 加熱部Φ1.6inch Max 850℃ BNプレート（Moカバー付き） 使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He |
| SH-BN-2.2inch | 加熱部Φ2.2inch Max 850℃ BNプレート（Moカバー付き） 使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He |
| SH-BN-3.1inch | 加熱部Φ3.1inch Max 850℃ BNプレート（Moカバー付き） 使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He |
| SH-BN-4.1inch | 加熱部Φ4.1inch Max 850℃ BNプレート（Moカバー付き） 使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He |
| SH-BN-6.1inch | 加熱部Φ6.1inch Max 850℃ BNプレート（Moカバー付き） 使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He |
詳細情報
SH-IN-2.2inch-サンプル固定クリップ
SH-IN-2.2inch-サンプル固定クリップ
SH-IN-1.6inch custom heater
Inconel 1.6inch heater right angled
CF114 flange
SH-BN-1.6inch heater with bracket
SH-BN-1.6inch heater with bracket
SH-IN-2.2inch-裏面支柱x4設置例
SH-IN-2.2inch-裏面支柱x4設置例
SH-IN-2.2inch customer heater
CF203 flange, Heater quarter faced
SH-IN-1.6inch-600℃昇温中
SH-IN-1.6inch-600℃昇温中
SH-IN-2.2inch-R【基板回転機構】
SH-IN-2.2inch-rotation stage
CF114 base flange
【ターゲット・カルーセル】基板ヒーターオプション
【PLD (Pulsed Laser Deposition) システム用自動ターゲット回転機構】
・ターゲットサイズ：1inch or 2inch
・ターゲット数：最大3個まで
・接続フランジ：8inch (ICF203)
・自公転：ターゲット選択（公転）、ターゲット回転（自転）
・19inchラックマウント式専用コントローラー
関連ダウンロード
【SH 高温基板ヒーター】PVD, CVD用 Max1100℃
上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
お問い合わせ
※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。
テルモセラ・ジャパン株式会社
