統と豊富な実績を持つウシオ社の
光加熱用光源の実用例(不純物拡散)のご紹介です
【特徴】
○使用光源:クセノンフラッシュランプ・ハロゲンヒータランプ
○半導体工程において、ソースドレインにインプラントを行い
その後、アニール工程によってドーピングした不純物を活性化
○クセノンフラッシュランプの特性を活かし
ミリ秒単位という短時間で今までの活性層の深さに比較して
極めて浅い部分(nmオーダー)を高温アニールし
不純物の拡散を防ぐことが可能
●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。
基本情報
統と豊富な実績を持つウシオ社の
光加熱用光源の実用例(不純物拡散)のご紹介です
【特徴】
○使用光源:クセノンフラッシュランプ・ハロゲンヒータランプ
○半導体工程において、ソースドレインにインプラントを行い
その後、アニール工程によってドーピングした不純物を活性化
○クセノンフラッシュランプの特性を活かし
ミリ秒単位という短時間で今までの活性層の深さに比較して
極めて浅い部分(nmオーダー)を高温アニールし
不純物の拡散を防ぐことが可能
●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。
価格情報 | - |
---|---|
納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | 【用途】 ○シリコンウェハを注入した不純物の活性化 |
関連カタログ
お問い合わせ
※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。
ウシオ電機株式会社