株式会社アイテス

機械研磨による半導体の観察例

NEW   最終更新日: 2024-07-01 15:59:29.0
半導体の構造観察や不良解析における断面作製!FIBやCPに劣らぬ断面作製が可能

当社で行った「機械研磨による半導体の観察例」をご紹介いたします。

メリット、デメリットはありますが、FIBやCPに劣らぬ断面作製が
機械研磨でも可能。

当社では長年、蓄積されたノウハウを元に、観察目的や試料の組成、構造に
応じてより適切な処理方法をご提案いたします。
お困りごとなど御座いましたら下記までお気軽にお問い合わせください。

【観察例】
■半導体_Si
■化合物半導体_GaN
■化合物半導体_GaP
■化合物半導体_GaAs

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

基本情報

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