独自に開発したイオンソースを使用し、優れた膜厚均一性を達成します。
原理：DCベースイオンミリング
特徴：
シンプルで頑丈な構造
素早い反応時間（切削量に応じて）
０エッチング可能
DCベースソース（グリッドレス、フィラメントレス）でシンプルなメンテナンス
適用例:
SAWフィルターの温度補償層（SiO2）の膜厚調整、LTO,AlN膜等の膜厚調整
AlN, LTO等圧電膜の膜厚、周波数調整
その他導電体、非導電体膜の膜厚調整
納入実績:
日本：複数台
海外：多数台納入
米国AMS社のSAW、BAWフィルタ、その他のアプリケーションで使用されるトリミング装置です。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 |
MEMS、SAWフィルタ FBAR |
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株式会社マツボー
