［TDS］昇温脱離ガス分析法

最終更新日: 2023-04-14 12:08:55.0

真空加熱/昇温により発生したガスを温度毎にモニターできる質量分析法。水素や水も感度よく確認

TDSは、真空加熱/昇温により発生したガスを温度毎にモニターできる質量分析法です。
TDSスペクトルは、横軸に温度、縦軸にイオン強度を表します。これにより、放出されるガスの脱離量の比較、脱離温度の比較が可能です。また、真空雰囲気下であることから水素や水も感度よく分析することができます。

・試料から脱離するガス及び圧力と、発生温度の関係を知ることが可能
・試料のみを加熱できるため、バックグランドが低く、水素、水、酸素、窒素などの低質量分子の高感度分析が可能
・試料からの発生ガスの成分推定、及び定量（分子の数）分析が可能

関連リンク - https://www.mst.or.jp/method/tabid/136/Default.asp…

基本情報

■加熱部
試料をステージ上に置き、ステージ下部から赤外線を照射することにより試料を加熱します。
温度制御は、ステージ側にある熱電対にて行ないます。試料上部側の熱電対により試料表面側の温度を測定することも可能です。

■質量分析部
加熱により発生したガスは加速した電子の衝突よりプラスイオン化され、質量電荷比に応じて分離されます。

価格情報	測定対象によって価格が変動しますので、お気軽にお問い合わせください。
納期	お問い合わせください
用途／実績例	・層間絶縁膜の水分管理・H2の脱離・ドライエッチングの残渣確認・ウエハ表面の汚染評価　　等

詳細情報

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