非接触の光学厚み測定。高精度が求められる半導体ウエハの厚み測定でも適用可能。
新製品『CHRocodile 2 SX』は、ウエハやコーティングなど材料厚みを非接触測定できる装置です。最大5kHzと高速サンプリングが可能なため、インラインでも適用できます。Si等の半導体ウェハー厚み測定をはじめ、フイルム、樹脂、ガラス、太陽電池等の厚み測定も可能です。特に、ウエハグラインディング中に厚みモニタリングしたい場合には、Siウエハで200um~0.5umまで測定ができます。
【特長】
■幅広い厚み測定範囲 、様々な材質に対応
豊富なプローブラインナップで、
厚みは、光学長で薄膜(数2um)~厚膜(1000um)
Siで0.5~200umまで対応。
■高分解能(サブミクロン 最小3nm @ 光学長)
■開発コスト低減、開発納期短縮に貢献できる、
装置組込み用のソフト開発キット(DLLなど)も用意
■半導体業界で豊富な実績
※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
基本情報
【その他の特長】
■測定レンジ:
2μm~1000μm (n=1)
0.5μm~200μm (n=3.8など)
■分解能:最大3nm(n=1)
■測定周波数: 5kHz
■インターフェイス:Ethernet,RS422,アナログ(2ch)
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯 | 100万円 ~ 500万円 |
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納期 | お問い合わせください |
型番・ブランド名 | CHRocodile 2 SX |
用途/実績例 | 【用途】 ■Siなど等半導体ウェハー厚み測定 フイルム、樹脂、ガラス、液晶ギャップセル、太陽電池等の 厚み測定やドープウェハー測定 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 【用途・測定項目・メリットなどキーワード】 非接触センサ、光センサ、光学センサ、分光干渉法、厚み、薄膜、厚膜、ギャップ、形状、計測、測定、検査、高速、高精度、インライン、モニタリング、In-Situ、加工中、加工前後、研磨、半導体、ウエハ、ウエハ貼あわせ、Siウエハ、透明、透明体、光沢、鏡面、簡単 |
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