加温する液体成分に影響を及ぼさない製品となっています。
本装置は、シリコンウェハー，液晶ガラス基板，ハードディスク基板、及び各種部品等の洗浄で使用される超純水をカーボンヒーターにより加温する装置です。
【特徴】
○純水加熱容器は石英ガラスを使用
○純水接液配管部はフッ素樹脂を使用
○純水加熱に好適なカーボンヒーターを使用
○加熱効率が９６％以上
○PID制御による±1℃の安定した温度制御
○起動から使用温度まで120秒以内の昇温
○幅広い使用流量・温度に対応
○流量変化に対応した温度調整が可能
※製品の詳細は、下記の「PDFダウンロード」ボタンよりご覧いただけます。
※お問い合わせもお気軽にどうぞ。
【仕様】
○加温能力：12?/分、ΔT＝55.0℃（12Nの場合）
○最高設定温度：85℃
○温度調整制度：±1℃
○加温タンク数：2個（12Nの場合）
○ヒーター本数：12本（12Nの場合）
○電源（制御用）：AC200V 5A
○加温能力：12?/分、ΔT＝55.0℃（12Nの場合）
○最高設定温度：85℃
○温度調整制度：±1℃
○加温タンク数：2個（12Nの場合）
○ヒーター本数：12本（12Nの場合）
○電源（制御用）：AC200V 5A
| 価格情報 | - |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 型番・ブランド名 | HDM－3 |
| 用途／実績例 |
【用途】 ■ダイサー（装置組込） ■ウエット処理装置 【実績例】 単独にて使用 |
ラインアップ
| 型番 | 概要 |
|---|---|
| HDM－３ |
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株式会社テクノメイト
