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- 「MiniLab series実験装置」は、豊富なオプションから必要な膜種・用途に応じて都度適切なモジュール選択をすることにより、カスタマイズ品でありながら無駄が無くコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play感覚で搭載することにより応用範囲が広がり、様々なプロセス実験装置への応用が可能になります。
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- TCF-C500 超高温小型実験炉Max2900℃
- コンパクト・省スペース・省エネルギー！ 高性能 R&D用超高温実験炉
- 最終更新日：2024-10-12 16:13:58.0
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- 【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置
- 【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能CVD装置
- 最終更新日：2024-10-12 15:40:57.0
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- ◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆
- ローコスト 必要最小構成（手動制御）管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用可能
- 最終更新日：2024-10-12 16:14:19.0
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- Products Guide_【超高温実験炉 製品ガイド」
- テルモセラ・ジャパン研究開発用実験炉を紹介。燃料電池・セラミックス等の材料開発・黒鉛・等の超高温実験に活用頂けます。
- 最終更新日：2024-10-12 15:39:06.0
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- BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃
- PVD、CVDなどの薄膜実験用基板加熱ヒーター均一性・昇温特性・制御性に優れたヒーターです。RF/DCバイアス仕様も可能。
- 最終更新日：2024-10-12 16:10:10.0
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- 【SH 高温基板ヒーター】PVD, CVD用 Max1100℃
- CVD, PVD（蒸着, スパッタ等）均熱性・再現性に優れた高真空 超高温 ウエハー・小片チップ加熱用 プレートヒーター
- 最終更新日：2024-10-12 16:13:14.0
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- 【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃
- 超高温基板加熱ステージに、基板昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全てが1台で可能! 'All-In-One'コンポーネント
- 最終更新日：2024-10-12 16:09:45.0
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- ◾️真空用【CH 超高温円筒状ヒーター】Max1800℃ ◾️
- 真空用 超高温円筒状ヒーターユニット 最高温度1800℃（グラファイト、C/Cコンポジット）
- 最終更新日：2024-10-12 16:12:42.0
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- ◆Mini-BENCH-prismセミオート式 超高温実験炉◆
- 最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 最終更新日：2024-10-12 16:15:11.0
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- スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】
- 真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な「複合型」薄膜実験装置 nanoPVD-ST15A
- 最終更新日：2024-10-12 16:19:35.0
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- 真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』
- 卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
- 最終更新日：2024-10-12 15:40:36.0
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- 真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
- 最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 最終更新日：2024-10-12 16:14:45.0
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- アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』
- Φ6〜8inch超高温ウエハーアニール装置 研究開発から小規模生産まで多目的に幅広く対応するハイパフォーマンス機
- 最終更新日：2024-10-12 16:18:41.0
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- アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』
- Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar）
- 最終更新日：2024-10-12 15:51:43.0
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- 多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】
- 高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用） 4元マルチスパッタ（Φ6, 8inch用）
- 最終更新日：2024-10-12 15:52:59.0
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