【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能CVD装置
◉ グラフェン, カーボンナノチューブ
◉ ZnOナノワイヤ
◉ SiO2等の絶縁膜など
その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応
【特徴】
◉ コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能
◉ ホットウオール式 反応管内を均一に加熱
◉ 4系統(CH4, Ar, H2, バブラー用)MFC高精度流量制御:精度±1% F.S.
◉ キャパシタンスマノメータ(バラトロンゲージ)による高精度APC圧力制御
◉ Lab Viewソフトウエア(オプション)によるリモート制御, データ解析
【主仕様】
◉ Φ2.5inch(標準)Φ4inch x12inch石英反応管内
◉ 最高使用温度1100℃
◉ 試料サイズ:10x10mm, (Φ2.5inch)100 x 100mm(Φ4inch)
◉ PID温度コントロール:Eurotherm 2416プログラム温度調節計
◉ 流量制御:±1%F.S. 0sccm 〜 100, or 1000sccm(ガス種による)
◉ ロータリーポンプ付属
◉ コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能
◉ ホットウオール式 反応管内を均一に加熱
◉ 4系統(CH4, Ar, H2, バブラー用)MFC高精度流量制御:精度±1% F.S.
◉ キャパシタンスマノメータ(バラトロンゲージ)による高精度APC圧力制御
◉ Lab Viewソフトウエア(オプション)によるリモート制御, データ解析
【主仕様】
◉ Φ2.5inch(標準)Φ4inch x12inch石英反応管内
◉ 最高使用温度1100℃
◉ 試料サイズ:10x10mm, (Φ2.5inch)100 x 100mm(Φ4inch)
◉ PID温度コントロール:Eurotherm 2416プログラム温度調節計
◉ 流量制御:±1%F.S. 0sccm 〜 100, or 1000sccm(ガス種による)
◉ ロータリーポンプ付属
価格情報 |
お問い合わせ下さい お問合せ下さい |
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納期 | お問い合わせください |
型番・ブランド名 | BWS-NANO |
用途/実績例 |
グラフェン, カーボンナノチューブ ZnOナノワイヤ ナノダイヤモンド 絶縁膜、保護膜(SiC, TiN etc.) その他, 熱CVD装置用途全般 |
詳細情報
石英反応管
Φ2.5inchもしくはΦ4inch x 12inch
Lab Viewオプションソフトウエア
圧力, 温度、ガスフロー等のパラメータ設定、及びシステムのリモート制御、データロギング
関連ダウンロード
【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置
上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
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テルモセラ・ジャパン株式会社