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◉ 19inchシングルラックフレームに収納、わずかなスペースで設置が可能
◉ 有機材料蒸着源x最大4源、金属蒸着源x最大2源搭載
◉ グローブボックス組込モデルも有り
◉ 豊富なオプション部品を用意
研究開発用途の、エントリーレベル小型真空蒸着装置です。金属材料蒸着ソース(TE1-Box型、又は電極モジュール「TE1~TE4」)を組替え、対応するTECコントローラにて自動もしくは手動制御を行います。基板用・ソース用シャッター、膜厚モニター、真空計、基板ホルダ、基板加熱ヒーター、基板回転・昇降ステージ、RF/DCバイアス印加など豊富なオプションを用意。連続多層膜制御、又、同時成膜(有機膜材料のみ)も可能です。
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- 薄膜実験装置_「PRODUCTS GUIDE 2022」
- 半導体・電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用各種実験装置、薄膜実験装置を紹介。
- 最終更新日:2023-09-15 14:38:25.0
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- □■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□
- 小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成
- 最終更新日:2023-09-20 12:24:55.0
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- □■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□
- 蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み立てることができるセミカスタムメイド薄膜実験装置
- 最終更新日:2023-09-20 21:04:04.0
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- 【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置
- 小型・省スペース! 有機薄膜開発に好適 蒸着・スパッタ・アニール等全ての作業をグローブボックス内でシームレスに行う事ができます。
- 最終更新日:2023-09-15 14:05:23.0
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- 【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置
- モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。
- 最終更新日:2023-09-20 11:54:31.0
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- 【マグネトロンスパッタリングカソード】
- 不純物なく金属・絶縁物等を堆積するRF, DC, パルスDC対応高効率マグネトロンスパッタカソード。メンテナンス性にも優れます。
- 最終更新日:2023-09-15 14:39:56.0
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- 【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置
- 高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式スパッタリング装置
- 最終更新日:2023-09-15 14:16:58.0
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- ◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置
- 限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新の真空蒸着技術の全てを収納しました。
- 最終更新日:2023-09-15 14:31:02.0
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- ◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置
- Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板対応、 高真空アニール装置(<5 × 10-7 mbar)
- 最終更新日:2023-09-15 14:42:44.0
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- MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉2000℃
- SiC3, TiC3コーティングヒーター採用:様々なプロセス環境に対応 小規模生産も可能なマルチ雰囲気ウエハーアニール装置
- 最終更新日:2023-04-01 17:30:19.0
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- 【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置
- 【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能CVD装置
- 最終更新日:2023-08-26 16:32:53.0
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- 【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置
- ◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT(SWNT)合成実験が可能 ◉ 1バッチわずか30分!
- 最終更新日:2023-09-15 14:33:46.0
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- ソフトエッチング装置【nanoETCH】<30W低出力
- <30W(制御精度10mW)低出力RFエッチングによる、精細でダメージレスなエッチング処理を実現。
- 最終更新日:2023-09-16 11:25:21.0
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- BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃
- 【UHV対応 真空薄膜実験用 面状加熱ヒーター】 大学・研究機関のお客様に限定した安価で短納期なヒーター製品を用意致しました。
- 最終更新日:2023-08-26 17:00:35.0
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- 【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃
- CVD, PVD(蒸着, スパッタ, PLD, ALD等)均熱性・再現性に優れた高真空 超高温ウエハー加熱用ホットプレート
- 最終更新日:2023-10-15 20:38:59.0