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多目的に使える、高精度プロセスコントロール【ホットウオール式熱CVD装置】
◉ 最高使用温度 1100℃
◉ グラフェン, カーボンナノチューブ
◉ ZnOナノワイヤ
◉ SiO2等の絶縁膜など
その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに活用いただけます。
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- 【HTシリーズ基板加熱ヒーターMax1900℃】Φ1〜8inch
- プレート最高温度Max1900℃。HV, UHVほか過酷なプロセス環境に対応可能な真空薄膜・成膜装置用基板加熱ヒーター
- 最終更新日:2023-08-26 17:09:44.0
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- 【円筒状ヒーター】グラファイト, C/Cコンポジットヒーター
- 超高温 Max1800℃円筒状ヒーター
- 最終更新日:2023-08-26 16:52:17.0
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- Products Guide_【超高温実験炉 製品ガイド」
- テルモセラ・ジャパン研究開発用実験炉を紹介。燃料電池・セラミックス等の材料開発・黒鉛・等の超高温実験に活用頂けます。
- 最終更新日:2023-08-26 17:07:19.0
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- TCF-C500 超高温小型実験炉Max2900℃
- コンパクト・省スペース・省エネルギー! 高性能 R&D用超高温実験炉
- 最終更新日:2023-08-26 17:04:42.0
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- ◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆
- ローコスト 必要最小構成(手動制御)管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用可能
- 最終更新日:2023-08-26 17:02:43.0
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- MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉2000℃
- SiC3, TiC3コーティングヒーター採用:様々なプロセス環境に対応 小規模生産も可能なマルチ雰囲気ウエハーアニール装置
- 最終更新日:2023-04-01 17:30:19.0
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- ソフトエッチング装置【nanoETCH】<30W低出力
- <30W(制御精度10mW)低出力RFエッチングによる、精細でダメージレスなエッチング処理を実現。
- 最終更新日:2023-09-16 11:25:21.0
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- □■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□
- 蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
- 最終更新日:2023-09-16 10:31:15.0
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- □■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□
- グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
- 最終更新日:2023-09-16 10:32:22.0
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- ◆Mini-BENCH-prismセミオート式 超高温実験炉◆
- 最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース実験炉
- 最終更新日:2023-08-26 16:36:02.0
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- スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】
- 真空蒸着(金属・有機蒸着源)、スパッタリングカソードの混在設置が可能な「複合型」薄膜実験装置 nanoPVD-ST15A
- 最終更新日:2023-09-14 00:39:14.0
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- 真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』
- 卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
- 最終更新日:2023-08-27 23:55:12.0
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- 真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
- 最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース実験炉
- 最終更新日:2023-08-27 23:56:21.0
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- アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』
- SiC3, TiC3コーティングヒーター採用:様々なプロセス環境に対応 小規模生産も可能なマルチ雰囲気ウエハーアニール装置
- 最終更新日:2023-04-01 17:19:42.0
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- アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』
- Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板対応、 高真空アニール装置(<5 × 10-7 mbar)
- 最終更新日:2023-09-15 14:42:16.0