ローコスト 必要最小構成（手動制御）管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用可能
小片試料〜3inch waferまでの小基板用 サセプタ手動昇降式縦型実験炉
大学・企業研究室での基礎実験用に最適な基礎実験用ローコスト版縦型炉
【用途】
◉ 半導体・太陽電池・燃料電池・電子基板等の熱処理
◉ 基礎実験：縦型管状炉・酸化拡散炉・LPCVD等の簡易熱処理実験
【主な仕様】
・炉内温度Max1200℃, 試料最大温度Max950℃
・小片試料：数ミリサイズ〜3inchウエハーサイズまで対応
・基板枚数：1〜3枚程度
・石英サセプタ手動昇降式：停止位置目盛、クランパ付き
・炉芯管：Φ100 x Φ95 x 470L mm
・昇降：手動回転ハンドル
・温度調節：PIDプログラム温度調節計
・熱電対：2対式K熱電対x1（制御用、過昇温用）、Kタイプ素線（炉芯測温用）
・炉内温度Max1200℃, 試料最大温度Max950℃
・小片試料：数ミリサイズ〜3inchウエハーサイズまで対応
・基板枚数：1〜3枚程度
・石英サセプタ手動昇降式：停止位置目盛、クランパ付き
・炉芯管：Φ100 x Φ95 x 470L mm
・昇降：手動回転ハンドル
・温度調節：PIDプログラム温度調節計
・熱電対：2対式K熱電対x1（制御用、過昇温用）、Kタイプ素線（炉芯測温用）
| 価格情報 | お問合せ下さい |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 型番・ブランド名 | TVF-110 |
| 用途／実績例 |
◉ 半導体・太陽電池・燃料電池・電子基板等の熱処理 ◉ 基礎実験：縦型管状炉・酸化拡散炉・LPCVD等の簡易熱処理実験 |
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◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆
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