最終更新日:
2023-04-05 09:45:27.0
高密度のプラズマを生成し、高いイオン化率により高品質の成膜をする方法を用いた電源装置
HiPIMS(High Power Impulse Magnetron Sputtering)とは、
スパッタリングの一種で、低いduty比で集中させた高い電力を
瞬間的にカソードに投入することで高密度のプラズマを形成する手法です。
スパッタガス、ターゲットのイオン化率を著しく高めることにより、
表面平滑性、硬度、密着性の向上、緻密な膜ができる等の様々な利点があります。
【特長】
■高密度のプラズマを生成
■高いイオン化率により高品質の成膜
■バイポーラパルスによるアーク異常放電の抑制
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
基本情報
【装置構成】
■正極用 DC電源(Vp-DC Unit)
■負極用 DC電源(Vn-DC Unit)
■パルスユニット(Pulse Unit)
■コントロールユニット(Control Unit)
■制限抵抗器(R-Unit)
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
価格帯 | お問い合わせください |
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納期 | お問い合わせください |
型番・ブランド名 | HiPIMS用パルス電源 |
用途/実績例 | 成膜装置、陽極酸化、メッキ装置 |
お問い合わせ
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