東京電子株式会社

電源装置『HiPIMS用パルス電源』

最終更新日: 2023-04-05 09:45:27.0
高密度のプラズマを生成し、高いイオン化率により高品質の成膜をする方法を用いた電源装置

HiPIMS(High Power Impulse Magnetron Sputtering)とは、
スパッタリングの一種で、低いduty比で集中させた高い電力を
瞬間的にカソードに投入することで高密度のプラズマを形成する手法です。

スパッタガス、ターゲットのイオン化率を著しく高めることにより、
表面平滑性、硬度、密着性の向上、緻密な膜ができる等の様々な利点があります。

【特長】
■高密度のプラズマを生成
■高いイオン化率により高品質の成膜
■バイポーラパルスによるアーク異常放電の抑制

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

基本情報

【装置構成】
■正極用 DC電源(Vp-DC Unit)
■負極用 DC電源(Vn-DC Unit)
■パルスユニット(Pulse Unit)
■コントロールユニット(Control Unit)
■制限抵抗器(R-Unit)

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
型番・ブランド名 HiPIMS用パルス電源
用途/実績例 成膜装置、陽極酸化、メッキ装置

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