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[SAXS]X線小角散乱法

・ナノスケールでの周期構造・配向性を評価可能

SAXSは、X線を物質に照射して散乱したX線のうち、2θ<10°以下の低角領域に現れるものを測定し、物質の構造を評価する分析手法です。通常、数nm~数十nm程度の大きさの構造を評価できます。 ・ナノスケールでの周期構造・配向性の評価が可能 ・微粒子や材料中の空孔分布を評価することが可能 ・タンパク質など生体材料の評価が可能 ・サンプルを加熱して評価することが可能

関連リンク - https://www.mst.or.jp/method/tabid/154/Default.asp…

基本情報

■周期構造による散乱 周期構造による散乱では、(1)のようなプロファイルが得られます。構造単位の周期性がピークとして現れます。低角領域の散乱X線を見ることで、数nm~数十nm程度の分子レベルの周期構造まで測定することができます。 ■粒子内部における散乱 粒子内部における散乱では、(2)のようなプロファイルが得られます。プロファイルの傾きは粒子(空孔)の大きさを反映しており、形状は粒子の形状や粒径分布を反映します。 広角に散乱されたX線⇒?オーダーの結晶の面間隔・歪み・配向性を評価 低角に散乱されたX線⇒ナノオーダーの分子の周期性・配向性を評価

価格情報

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用途/実績例

・高分子材料の結晶性・配向性評価 ・液晶試料の高次構造・ミクロ相分離構造解析 ・ポリスチレンナノ粒子の粒径解析 ・高分子のドメインサイズ評価

詳細情報

取り扱い会社

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