高性能な3つの“Minimal(最小化)”を実現!
“Minimal” コンタミネーション
接液部に発塵元となるベアリング・軸受・開閉バルブなどの部品を持たない非接触型構造となっています。そのため、ポンプ起因のコンタミネーションの心配がありません。
また、インペラとケース材料には、耐薬液性の高純度フッ素樹脂を使用しており汚染の心配もありません。構造的に、コンタミネーションリスクが最小限に抑えられています。
“Minimal” メンテナンス
ポンプ内部には摺動箇所がなくそのため、メンテナンスが必要となる摩耗部品が使われていません。また、インペラの駆動も磁力制御になるので、通常の機械制御で必要となる消耗部品が使われていません。
これらの構造の特徴から、メンテナンス頻度は最小限に抑えられています。
“Minimal” 脈動・振動
インペラをロータとして磁力制御により回転させ送液しているので、脈動・振動がありません。また、摺動部が無いためノイズ音も無く静穏な環境が確保できます。
高い回転への制御性能を有しているので高精度な送量を実現しています。
基本情報
■精密な送液を実現する磁気浮上遠心ポンプ
レビトロニクスポンプは、コンタミネーション発生の原因となる軸受や開閉バルブを持たない革新的なポンプです。
磁気浮上の原理に基づいて、インペラは密閉されたポンプケーシングの中で非接触で浮上し、電気的な磁気制御により回転駆動されます。
この構造・システムにより、精密な流体の圧力・流量制御を可能としています。
もちろん、接液部となるインペラとポンプケーシングは、高純度フッ素樹脂で作られているので高い耐薬性能を有しています。
■無摺動・無接触構造
各接液部品は、相互に接触しない構造のため、擦れによる発塵はなく、非常にクリーンな送液が可能です。
ベアリング・開閉バルブ等の消耗品が無いため、通常必要となるメンテナンスは不要です。保守部品および作業コストが削減できるほか、保守作業時の生産機会のロスも減らせます。
製品寿命についても、機械的な構造にような消耗部品を持たないため、他の構造をもつポンプ製品に対し、高いアドバンテージを有しています。
価格帯 | お問い合わせください |
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納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | ■メッキ工程 無脈動により、メッキ液を非常に安定した流量で供給。 また電子制御機能により、高精度に送液します。これにより、メッキ厚を最適に管理でき、次工程のCMPの研磨コスト抑制にも貢献します。 ■CMP工程 主にスラリー送液用として使用。通常のダイヤフラムポンプ、ベローズポンプに比べ、スラリーへの“せん断力”がないため、スラリーの凝集を抑えることができます。これにより、CMPによる欠陥で最も重大な原因の一つであるマイクロスクラッチを、最大80%削減できます。また、装置にフィルターが使用されている場合、ポンプ回転数に基づいて、フィルター交換時期をアラームとして出力できます。 ■洗浄工程 ウエットプロセスでのパーティクルは、他のポンプの1/10~1/50。洗浄装置に対して、低パーティクル、無脈動による安定した送液を実現します。 |
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