最終更新日:
2024-01-11 16:12:30.0
実験・研究・評価・試作に好適！ガラス、金属などの平板基材に高速、高精度、低ダメージ真空成膜を実現！
『VS-R400G』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、
超高速、高品質な真空成膜を実現するスパッタ装置です。
LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)によるアシスト効果により、
成膜速度を落とすことなくダメージを低減し、高品質な成膜を実現。
また、高密度プラズマの特性を活かし、反応性スパッタにも
対応可能です。
【特長】
■実験・研究・評価・試作に好適なスパッタ装置
■成膜速度を落とすことなくダメージを低減し、高品質な成膜を実現
■高密度プラズマの特性を活かし、反応性スパッタにも対応可能
■ロータリーカソードを搭載することで、成膜速度の高速化が可能
■生産機への展開が容易
※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報
■対象基材：ガラス板、金属板などの平板
【仕様(一部)】
・対象膜：ITO、アルミナ、化合物、各種金属膜
・成膜方法：デポダウン、インライン成膜
※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 型番・ブランド名 | VS-R400G |
| 用途／実績例 | 【用途】 ■機能膜 ■表面改質 ■表面処理 ■改質 ■窒化 ■酸化 ■パッシベーション ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
ラインナップ
| 型番 | 概要 |
|---|---|
| VS-R400G | ・対象基材：ガラス板、金属板などの平板 |
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