最終更新日:
2024-01-11 16:18:55.0
独自のLIA方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔に超高速、高品質な真空成膜を実現！
『VC-R400F』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔への超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。
実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。
多点制御により、より細かな均一性を確保。
手動、自動、オプションも多彩です。
【特長】
■実験・研究・評価・試作に好適
■高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現
■LIAの多点制御により、より細かな均一性を確保
■従来比5倍以上の超高速成膜を実現
■多彩なオプションをご用意
※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報
■ 対象基材：樹脂フィルム（PET、PEN）、金属箔
【仕様(一部)】
・対象膜：DLC、SiN、SiOなど
・成膜方法：デポダウン、静止成膜(インライン成膜も対応可能)
・温調：ステージ温調＜500℃
※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 型番・ブランド名 | VC-R400F |
| 用途／実績例 | 【用途】 ■DLC ■機能膜 ■表面改質 ■表面処理 ■エッチング ■アッシング ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
ラインナップ
| 型番 | 概要 |
|---|---|
| VC-R400F | ・対象基材：樹脂フィルム（PET、PEN）、金属箔 |
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