最終更新日:
2024-03-27 17:00:10.0
10Pa以下の減圧処理が可能!実験ラボに好適な小型減圧乾燥装置
『VA-R400G』は、薬液塗布後の基材を減圧状態にして
乾燥を促進させる減圧乾燥装置です。
基板支持ピンは任意の位置に設置でき、段階的に真空圧力を
変化させ減圧処理する事でムラや発泡を抑制可能。
また、装置内に真空ポンプ・電装BOX・操作パネルを集約した
省スペース設計となっております。
【特長】
■装置内に真空ポンプ・電装BOX・操作パネルを集約した省スペース設計
■10Pa以下の減圧処理が可能
■基板支持ピンは任意の位置に設置可能
■段階的に真空圧力を変化させ減圧処理する事でムラや発泡を抑制可能
■圧力波形モニタリング機能を搭載可能
※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報
【装置仕様】
■基材サイズ:W50xL50~W400 x L500mm
■装置サイズ(W×D×H):985x1,044x1,760mm
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