◉ 短時間 1バッチわずか30分で容易にグラフェン合成実験が可能 ◉ 高精度温度・圧力制御 ◉ 洗練されたソフトウエア
◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール
◉ 急速昇温：1100℃/約3分間
◉ 高精度温度制御：±1℃
◉ 高精度APC自動圧力制御システム：ガス3系統（Ar, H2, CH4）
◉ グラフェン作成用標準レシピ付属
◉ コンパクトサイズ：405(W) x 415(D) x 280(H)mm
◆特徴◆
・簡単操作! 5inchタッチパネルによる操作・レシピ管理
・最大30レシピ，30stepのプログラム作成可能
・PCソフトウエア付属 USBケーブル接続，PC側でのオフラインレシピ作成→装置へアップ/ダウンロード, CSVデータ出力
・最大試料サイズ：40 x 40mm：銅（ニッケル）箔, SiO2/Si, Al2O3/Si基板，他
◆Model. nanoCVD-8G（グラフェン用）◆
・グラフェン作成用，真空プロセス制御
・ロータリーポンプ標準付属（オプション：ドライスクロールポンプ）
・ガス供給3系統（Ar, H2, CH4）
・試料加熱ステージMax1100℃
・Kタイプ熱電対
※ Ar, H2, CH4等の原料、及び原料供給設備は付属しません。
・簡単操作! 5inchタッチパネルによる操作・レシピ管理
・最大30レシピ，30stepのプログラム作成可能
・PCソフトウエア付属 USBケーブル接続，PC側でのオフラインレシピ作成→装置へアップ/ダウンロード, CSVデータ出力
・最大試料サイズ：40 x 40mm：銅（ニッケル）箔, SiO2/Si, Al2O3/Si基板，他
◆Model. nanoCVD-8G（グラフェン用）◆
・グラフェン作成用，真空プロセス制御
・ロータリーポンプ標準付属（オプション：ドライスクロールポンプ）
・ガス供給3系統（Ar, H2, CH4）
・試料加熱ステージMax1100℃
・Kタイプ熱電対
※ Ar, H2, CH4等の原料、及び原料供給設備は付属しません。
| 価格情報 |
- 詳細当社までお問い合わせ下さい。 |
|---|---|
| 納期 |
お問い合わせください
※ 詳細当社までお問い合わせ下さい。 |
| 型番・ブランド名 | nanoCVD-8G |
| 用途／実績例 |
◆主な応用アプリケーション◆ ・大学教育機関 ・各研究機関での基礎・応用研究 ・材料開発 ・その他先端デバイス開発などに応用 |
ラインアップ
| 型番 | 概要 |
|---|---|
| nanoCVD-8G | Graphene用 真空プロセス制御 ロータリーポンプ標準付属 |
| nanoCVD-8N | SWNT用 常圧プロセス制御 |
詳細情報
nanoCVD-8G sample stage
nanoCVD-8G試料加熱ステージ
nanoCVD HMI
nanoCVD 5inchタッチパネルスクリーン
ラマン解析データ
nanoVD-8G グラフェン ラマン解析データ
nanoCVD-8G グラフェン合成装置
nanoCVD-8G グラフェン合成装置
関連ダウンロード
【nanoCVD-8G】グラフェン合成装置
上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
お問い合わせ
※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。
テルモセラ・ジャパン株式会社
