Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。
Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。
熱CVD、低温～高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給系統、基板加熱ヒーターなどご要望により構成をカスタマイズ致します。
【装置構成例】
・基板：Cu, Ni, 他..（フィルム, フォイル）
・原料：CH4, C2H4, solids (PMMA), etc..
・プロセスガス：H2, Ar, N2, etc..
・基板サイズ：Φ4inch
・150W, 13.56MHz RF電源
・500℃～Max1100℃基板加熱
・高精度プロセスガス圧力APC制御
・マスフローコントローラー最大4ch
・基板：Cu, Ni, 他..（フィルム, フォイル）
・原料：CH4, C2H4, solids (PMMA), etc..
・プロセスガス：H2, Ar, N2, etc..
・基板サイズ：Φ4inch
・150W, 13.56MHz RF電源
・500℃～Max1100℃基板加熱
・高精度プロセスガス圧力APC制御
・マスフローコントローラー最大4ch
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 型番・ブランド名 | nanoCVD-WGP |
| 用途／実績例 |
◆主な応用アプリケーション◆ ・大学教育機関 ・各研究機関での基礎・応用研究 ・材料開発 ・その他先端デバイス開発などに応用 |
関連ダウンロード
ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】
上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
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テルモセラ・ジャパン株式会社
