最終更新日:
2023-04-04 17:24:46.0
高い圧力から霧状の柔らかい圧力まで自由自在！2流体スプレーレジスト現像装置。厚膜などの現像時間を短くするのに有効です。
N2と現像液を混合して吐出する2流体スプレー方式の現像装置です。
N2の圧力を変更することで、スプレーの吐出圧力を変更することができます。
液の圧力を高め、高圧で吐出す方法や、液量を少なくして霧状にして柔らかく吐出する方法など幅広くスプレーの吐出パターンを選べます。
スプレーノズルは扇形、円形などの形状と分布や広がり角度や範囲も自由に選択できます。
マニュアル機～フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、
設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。
TMAH等多彩な薬液に実績があります。
【特長】
■2流体スプレーを搭載！（パドル併用も可）
■自動ウエハサイズ認識機能
■多彩な薬液に実績あり
■コンパクト設計
■生産量に合わせたラインアップ
デモ設備を常設しておりますので、デモのご検討をお願いいたします！
基本情報
【主な仕様】
■カセットステージ：2組
■スピン現像ユニット：2組
■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12"
■現像ノズル：1組/CUP
■リンスノズル：1組/CUP
■ベークユニット：4組（Max200℃）
■クーリングユニット：2組
■センタリングユニット：1組
■装置サイズ：（例）1400×1100×1800(Φ4"本体)
400×900×1800(薬液供給＋電源BOX)
■ウェハ搬送ロボット：1組（ダブルアームクリーンロボット）
その他オプション多数！
※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 |
お問い合わせください
※ 4～5ヶ月（通常）、状況によって変動しますので、お気軽にお問い合わせください。 |
| 用途／実績例 | パワーデバイス、SAWフィルター、LED、LD、通信関係の分野での販売実績がございます。 |
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