最終更新日:
2023-10-23 16:30:39.0
研究開発(要素技術)に最適!/卓上真空ラミネーター
・微粘着パッドにより真空中でガラス基板を保持し、下基板に気泡レスで貼り付けます。
・貼り付け動作は精密Zステージを電動操作。
・上ステージは石英ステージを採用。貼合状態の観察と真空中でのUV照射が可能です。
・上下ステージをMax120℃のヒーター内蔵タイプに変更も可能。
基本情報
基板サイズ:20mm×20mm~120mm×120mm
上ステージ:石英(UV照射エリア110mmロ)
下ステージ:アルミ
加圧力:40kgf 自動制御
加圧プロセス:ロードセル搭載 信号を読み取り2段加圧プロセス等対応可能
到達真空度:10Pa以下 真空度調整用リークバルブ付き
設置スペース:フットプリント270mm×440mmの省スペース設計
価格帯 | お問い合わせください |
---|---|
納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | 用途:研究開発(要素技術) 実績:マテリアル開発、テストサンプル作製、プロセス確認等 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
関連カタログ
お問い合わせ
※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。
常陽工学株式会社